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Mini-BENCH 超高温 卓上型実験炉 Max2,000℃-テルモセラ・ジャパン株式会社

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返答率

100.0%

返答時間

29.2時間

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最高使用温度

Max2,000℃ (カーボン炉)

ヒーター

グラファイト, 又はC/Cコンポジットヒーター

断熱材

グラファイトフェルト材

真空チャンバ

SUS304水冷ジャケット構造

使用雰囲気

真空中、又は不活性ガス (Ar)

有効加熱範囲

Φ1”~Φ4” (面状ヒーター) , Φ50 x 100 (H) mm (円筒ヒーター)

到達真空度

1x10-2 Pascal (*但し空炉の状態)

真空ポンプ

ロータリーポンプ (オプション:ドライポンプ, 高真空ポンプ)

熱電対

Cタイプ熱電対付属

容量・冷却水

ヒータ容量:3KVA max, 冷却水:2l/min 0.4Mpa

この製品について

■特徴

・真空中 ・不活性ガス置換雰囲気 ・還元雰囲気

■概要

大学・研究機関の基礎実験に最適な、コンパクトサイズ超高温実験用カーボン炉・メタル炉です。最小構成 (ヒーター・チャンバー・温度制御) から、ご予算・目的に応じて最適なシステムをご提案致します。ご要望に合わせて特注仕様も製作致します。

■その他

・省スペース: 328 (W) x 220 (D) x 250 (H) mm* *Φ2inchの場合 *加熱範囲によりチャンバー外形寸法異なります) ・円筒ヒータ (坩堝用) ・面状ヒータ (Φ1”~Φ4”基板用) フレキシブルな装置構成:ご予算に応じた装置構成をご提案致します。 ・チャンバー + Mini-BENCHコントロールボックス ・チャンバー + Mini-BENCHコントロールボックス + 真空排気ユニット

  • 型番

    真空・ガス置換炉 (カーボン炉)

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Mini-BENCH 超高温 卓上型実験炉 Max2,000℃ 真空・ガス置換炉 (カーボン炉) の性能表

商品画像 価格 (税抜) 最高使用温度 ヒーター 断熱材 真空チャンバ 使用雰囲気 有効加熱範囲 到達真空度 真空ポンプ 熱電対 容量・冷却水
Mini-BENCH 超高温 卓上型実験炉 Max2,000℃-品番-真空・ガス置換炉 (カーボン炉) 要見積もり Max2,000℃ (カーボン炉) グラファイト, 又はC/Cコンポジットヒーター グラファイトフェルト材 SUS304水冷ジャケット構造 真空中、又は不活性ガス (Ar) Φ1”~Φ4” (面状ヒーター) , Φ50 x 100 (H) mm (円筒ヒーター) 1x10-2 Pascal (*但し空炉の状態) ロータリーポンプ (オプション:ドライポンプ, 高真空ポンプ) Cタイプ熱電対付属 ヒータ容量:3KVA max, 冷却水:2l/min 0.4Mpa

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使用用途

#アニール #ガス雰囲気処理 #セラミックス処理 #乾燥 #焼結 #焼鈍 #焼入 #脱脂 #熱処理試験 #雰囲気制御 #溶解

最高温度 ℃

100 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,200 1,200 - 1,300 1,300 - 1,400 1,400 - 1,500 1,500 - 1,600 1,600 - 1,700 1,700 - 1,800

炉内容積 L

0 - 5 5 - 10

温度分布

3 - 6 6 - 10

電源電圧

AC100V AC110V AC200V AC220V AC380V AC400V

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


返答時間

29.2時間

会社概要

半導体・電子部品などの研究・開発・製造プロセスに必要な要素である「熱」応用製品の販売を基盤とし、「基板加熱ヒーター」「温度計測機器」「実験炉」「薄膜実験装置」他企画開発商品の販売を行うことにより先端分野発展の一旦を担い、...

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  • 本社所在地: 東京都

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