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返答時間
26.7時間
対応基板サイズ
標準：φ5インチ~φ8インチ、オプション：φ2インチ~φ4インチ、オプション：200mm×200mm 角型基板、オプション：サセプタ使用時：個片チップ~φ8インチ
温度制御範囲 TC
100℃~800℃
温度制御範囲 (Option) Special-TC
100℃~1,050℃ ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。
温度制御範囲 (Option) パイロメータ
450℃~1,250℃ ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。
加熱方式
赤外線ランプ放射加熱 (1.5kW×27本,Top 13、Bottom 14)
冷却方式
ガスパージによる強制空冷
加熱方向
上下面2方向
温度制御方式
検出温度フィードバックによるクローズドループ制御
昇温速度
10℃/sec~150℃/sec ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。
降温速度
10℃/sec~150℃/sec ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。また物理的冷却速度に制限されます。
温度測定精度
TC：±1℃ (校正後) ，ERPパイロメータ：±4℃ (校正後)
面内温度均一性
ΔT 10℃ ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。
ランプゾーン数
10ゾーン独立制御
試料ローディング方式
フロントローディング (手動)
プロセス処理室・試料搭載部
石英チューブ、石英トレイ
チャンバー材質
アルミニウム合金+拡散反射Auコーティング
チャンバー冷却方式
空冷・水冷併用
プロセスガス種
N2、O2、He、Ar、フォーミングガス (水素濃度5％程度)
プロセスガス系統数
標準：1系統 (N2) オプション：最大6系統
プロセスガス流量制御範囲
標準：0.2slpm~10slpm (MFCによる制御) オプション：20sccm~1,000sccm (MFCによる制御) 他
登録レシピ数
制限なし
レシピ当たりのステップ数
最大40ステップ (サイクリックアニールの場合、最大99ループ対応)
プロセス制御方式
装置組み込みコンピューターボード、RTAProソフトウェア、17インチタッチスクリーン、キーボード、マウス
ソフトウェアの主な機能
リアルタイムプロセスモニタ、レシピ編集・保存・読み出し、プロセスデータリコール、プロセスデータ出力 (Txt形式) 、各種キャリブレーション、システム診断 etc.
安全対策
非常停止SW、過昇温検出、冷却水監視、ドア開閉監視、ウォッチドッグタイマー etc.
外形寸法
W978×D1,220×H1,780mm
重量
460kg ※装置寸法・重量には、周辺機器は含まれておりません。
型番
AccuThermo AW820M取扱企業
ハイソル株式会社カテゴリ
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 対応基板サイズ | 温度制御範囲 TC | 温度制御範囲 (Option) Special-TC | 温度制御範囲 (Option) パイロメータ | 加熱方式 | 冷却方式 | 加熱方向 | 温度制御方式 | 昇温速度 | 降温速度 | 温度測定精度 | 面内温度均一性 | ランプゾーン数 | 試料ローディング方式 | プロセス処理室・試料搭載部 | チャンバー材質 | チャンバー冷却方式 | プロセスガス種 | プロセスガス系統数 | プロセスガス流量制御範囲 | 登録レシピ数 | レシピ当たりのステップ数 | プロセス制御方式 | ソフトウェアの主な機能 | 安全対策 | 外形寸法 | 重量 |
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要見積もり | 標準：φ5インチ~φ8インチ、オプション：φ2インチ~φ4インチ、オプション：200mm×200mm 角型基板、オプション：サセプタ使用時：個片チップ~φ8インチ | 100℃~800℃ | 100℃~1,050℃ ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。 | 450℃~1,250℃ ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。 | 赤外線ランプ放射加熱 (1.5kW×27本,Top 13、Bottom 14) | ガスパージによる強制空冷 | 上下面2方向 | 検出温度フィードバックによるクローズドループ制御 | 10℃/sec~150℃/sec ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。 | 10℃/sec~150℃/sec ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。また物理的冷却速度に制限されます。 | TC：±1℃ (校正後) ，ERPパイロメータ：±4℃ (校正後) | ΔT 10℃ ※標準的なSiウェハによる代表値。試料の材質、熱容量により変動します。 | 10ゾーン独立制御 | フロントローディング (手動) | 石英チューブ、石英トレイ | アルミニウム合金+拡散反射Auコーティング | 空冷・水冷併用 | N2、O2、He、Ar、フォーミングガス (水素濃度5％程度) |
標準：1系統 (N2) オプション：最大6系統 |
標準：0.2slpm~10slpm (MFCによる制御) オプション：20sccm~1,000sccm (MFCによる制御) 他 |
制限なし | 最大40ステップ (サイクリックアニールの場合、最大99ループ対応) | 装置組み込みコンピューターボード、RTAProソフトウェア、17インチタッチスクリーン、キーボード、マウス | リアルタイムプロセスモニタ、レシピ編集・保存・読み出し、プロセスデータリコール、プロセスデータ出力 (Txt形式) 、各種キャリブレーション、システム診断 etc. | 非常停止SW、過昇温検出、冷却水監視、ドア開閉監視、ウォッチドッグタイマー etc. | W978×D1,220×H1,780mm | 460kg ※装置寸法・重量には、周辺機器は含まれておりません。 |
アニール炉をフィルターから探すことができます
温度範囲 ℃
100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,300 1,300 - 1,500 1,500 - 1,800昇温速度 ℃/sec
10 - 25 25 - 50 50 - 100 100 - 150降温速度 ℃/sec
10 - 50 50 - 100 100 - 150
