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返答時間
23.3時間
発振波長
1,064/532/355nm
パルスエネルギー
30~200µJ@1,064nm 20~100µJ@1,064nm 10~75µJ@1,064nm
繰返し周波数
シングルショット~1MHz
パルス幅
＜10ps
光学ユニット
エネルギー制御・偏光制御・ビーム整形 (トップハットビーム等)
位置決めステージ構成例
XY軸：加工範囲 ±50mm、分解能 2µm、最大移動量 16mm/s Z軸：加工範囲 0~20mm、分解能 1µm、最大移動量 5mm/s
試料台
吸着テーブル (ステンレス製)
照射・観察ユニット
顕微鏡ベース筐体可、照射光学系、観察光学系
制御ユニット
システム制御ドライバー・コントローラー、電源制御ボックス、制御ソフトウェア
光学除振台
三次元空気バネ式除振装台
型番
ピコ秒レーザー取扱企業
株式会社東京インスツルメンツカテゴリ
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 発振波長 | パルスエネルギー | 繰返し周波数 | パルス幅 | 光学ユニット | 位置決めステージ構成例 | 試料台 | 照射・観察ユニット | 制御ユニット | 光学除振台 |
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要見積もり | 1,064/532/355nm | 30~200µJ@1,064nm 20~100µJ@1,064nm 10~75µJ@1,064nm | シングルショット~1MHz | ＜10ps | エネルギー制御・偏光制御・ビーム整形 (トップハットビーム等) | XY軸：加工範囲 ±50mm、分解能 2µm、最大移動量 16mm/s Z軸：加工範囲 0~20mm、分解能 1µm、最大移動量 5mm/s | 吸着テーブル (ステンレス製) | 顕微鏡ベース筐体可、照射光学系、観察光学系 | システム制御ドライバー・コントローラー、電源制御ボックス、制御ソフトウェア | 三次元空気バネ式除振装台 |
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レーザー出力 W
0 - 10 10 - 30 30 - 60 60 - 100 100 - 200 200 - 1,000 1,000 - 20,000レーザー種類
CO2レーザー シールドタイプCO2レーザー 半導体レーザー ファイバーレーザー 炭酸ガスレーザー YVO4レーザー 固体レーザー電源仕様
AC200V AC220V冷却方式
空冷 水冷最大消費電力 W
0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,000本体重量 kg
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返答時間
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