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返答率
100.0%
返答時間
23.3時間
発振中心波長
116nm
半値幅
<1nm
フォトンエネルギー
10.7eV
フォトンフラックス CW
2×10^-14
フォトンフラックス Pulsed
2×10^-16
発光スポットサイズ
1mm3
発振モード
連続発振 (CWモード) 、パルス発振 (パルスモード)
パルス幅
1~100μsと1ms~CW
繰返し周波数
最大10kHz
ランプ寿命
1,000時間保証
窓材質
MgF2
測定パラメータ
出力強度設定、発振モード設定、パルス幅設定、繰返し周波数設定、トリガー設定
適合基準
CE、CE-test certificate for IEC61010-1
真空対応
ISO KF40フランジ接続、真空システムリークレート <1×10-8 mbar L/s
型番
E-Lux™ 116取扱企業
株式会社東京インスツルメンツカテゴリ
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商品画像 | 価格 (税抜) | 発振中心波長 | 半値幅 | フォトンエネルギー | フォトンフラックス CW | フォトンフラックス Pulsed | 発光スポットサイズ | 発振モード | パルス幅 | 繰返し周波数 | ランプ寿命 | 窓材質 | 測定パラメータ | 適合基準 | 真空対応 |
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要見積もり | 116nm | <1nm | 10.7eV | 2×10^-14 | 2×10^-16 | 1mm3 | 連続発振 (CWモード) 、パルス発振 (パルスモード) | 1~100μsと1ms~CW | 最大10kHz | 1,000時間保証 | MgF2 | 出力強度設定、発振モード設定、パルス幅設定、繰返し周波数設定、トリガー設定 | CE、CE-test certificate for IEC61010-1 | ISO KF40フランジ接続、真空システムリークレート <1×10-8 mbar L/s |
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使用用途
#殺菌 #検査検出 #水処理 #硬化 #研究開発 #脱臭消臭 #分析 #表面処理 #照明 #殺虫ピーク波長 nm
100 - 300 300 - 400 400 - 900UV照射強度 µW/cm²
0 - 100 100 - 500 500 - 5,000 5,000 - 10,000 10,000 - 20,000 20,000 - 70,000ランプ電力 W
0 - 10 10 - 20 20 - 50 50 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 3,500 3,500 - 12,000ランプ電流 A
0 - 0.2 0.2 - 0.5 0.5 - 10 10 - 20入力電圧 V
0 - 50 50 - 150 150 - 200 200 - 250 250 - 300ランプ寿命 時間
500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 5,000 5,000 - 10,000 10,000 - 20,000 20,000 - 30,000 30,000 - 40,000 40,000 - 60,000返答率
100.0%
返答時間
23.3時間