QEF-300SPC | Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置フラットタイプ
タツモ株式会社

全型番で同じ値の指標

波長

172nm

ユーティリティ

N2/冷却水/AC100~240V

分布

±5%

照射開口

φ332mm

対応ワークサイズ

12inch

照度 (窓面最大)

80mW/cm²

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この製品について

■アプリケーション例・フォトマスク検査前除電
・ウェハ除電 (回路破損防止) 
・ガラス表面有機物除去 (ドライクリーニング) 
・コート前表面改質 (密着性向上) 
・メッキ前表面改質 (微細メッキ浸透) 
・電子基板の接合前処理 (密着性向上) 

・エキシマランプとは
エキシマランプとは、従来の放電灯 (水銀ランプやキセノンランプ等) と異なる発光原理、構造で、真空紫外光を照射できる光源です。エキシマランプでは従来の光洗浄改質で用いられてきた水銀ランプ (波長185nmと254nm) 比べるとフォトンエネルギーが高い、波長172nmの真空紫外光 (VUV) を発生します。瞬時の点灯消灯が可能で、アイドリングを必要としません。

・ダメージレス表面処理
フォトンエネルギーの高い172nm (真空紫外線) により効率よく炭素結合を切断、活性酸素・オゾン生成を行うことでダメージを与えず表面処理を行えます。 

・高照度・高均一性
独自技術である面全面が発光する”フラットタイプ”によりワーク全面を一括照射できます。全面照射することで高照度で照射ムラのない均一な照射が可能となります。

型番
QEF-300SPC

シリーズ
Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置フラットタイプ

取扱企業
タツモ株式会社

カテゴリ

光源

UV照射器

洗浄剤・装置

洗浄装置

浄化設備・装置

紫外線殺菌装置

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Quark紫外線照射装置 Excimer Lamp 172nm エキシマ照射装置フラットタイプ QEF-300SPCの性能表

商品画像	価格 (税抜)	波長	ユーティリティ	分布	照射開口	対応ワークサイズ	照度 (窓面最大)
	要見積もり	172nm	N2/冷却水/AC100~240V	±5%	φ332mm	12inch	80mW/cm²

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使用用途

#殺菌 #硬化 #実験研究 #半導体 #印刷 #医療 #接着 #乾燥

ランプ出力 W/cm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500

波長 nm

150 - 200 200 - 300 300 - 350 350 - 400 400 - 450

照射強度 mW/cm²

0 - 100 100 - 1,000 1,000 - 5,000 5,000 - 15,000

消費電力 W

0 - 10 10 - 100 100 - 500 500 - 2,000

冷却方式

空冷水冷

ランプ寿命時間

500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,000 3,000 - 8,000 8,000 - 30,000

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タツモ株式会社は、半導体製造装置や液晶製造装置などを取り扱っている企業です。電子機能部品の製造などを目的として1972年に会社を設立しています。設立以降、1980年に全自動レジスト塗布装置、1987年にウェーハマーキ...

本社所在地: 岡山県

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