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大気圧ランプアニール装置 (RTP・RTA) AccuThermo AW610M-ハイソル株式会社

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対応基板サイズ

[標準] φ3インチ ~ φ6インチ [オプション] φ2インチ ~ φ4インチ [オプション] 156mm × 156mm 角型基板 [オプション] サセプタ使用時:個片チップ~φ6インチ

温度制御範囲 TC

100℃~800℃

温度制御範囲 (Option) Special-TC

100℃~1,050℃

温度制御範囲 (Option) パイロメータ

450℃~1,250℃

加熱方式

赤外線ランプ放射加熱 (1.2kW×21本,Top 10、Bottom 11)

冷却方式

ガスパージによる強制空冷

加熱方向

上下面2方向

温度制御方式

検出温度フィードバックによるクローズドループ制御

昇温速度

10℃/sec~150℃/sec

降温速度

10℃/sec~150℃/sec

温度測定精度

TC:±1℃ (校正後) ,ERPパイロメータ:±4℃ (校正後)

面内温度均一性

ΔT 10℃

ランプゾーン数

6ゾーン独立制御

試料ローディング方式

フロントローディング (手動)

プロセス処理室、試料搭載部

石英チューブ、石英トレイ

チャンバー材質

アルミニウム合金+拡散反射Auコーティング

チャンバー冷却方式

空冷・水冷併用

プロセスガス種

N2、O2、He、Ar、フォーミングガス (水素濃度5%程度)

プロセスガス系統数

[標準] 1系統 (N2) [オプション] 最大4系統

プロセスガス流量制御範囲

[標準] 0.2slpm~10slpm (MFCによる制御) [オプション] 20sccm~1000sccm (MFCによる制御) 他

登録レシピ数

制限なし

レシピ当たりのステップ数

最大40ステップ (サイクリックアニールの場合、最大99ループ対応)

プロセス制御方式

装置組み込みコンピューターボード、RTAProソフトウェア、17インチ液晶モニタ、キーボード、マウス

ソフトウェアの主な機能

・リアルタイムプロセスモニタ ・レシピ編集、保存、読み出し ・プロセスデータリコール ・プロセスデータ出力 (Txt形式) ・各種キャリブレーション ・システム診断 etc.

安全対策

非常停止SW、過昇温検出、冷却水監視、ドア開閉監視、ウォッチドッグタイマー etc.

外形寸法・重量

W660×D432×H366 mm・50kg

タイプ

6インチ対応

この製品について

■国内販売実績 50台以上 研究開発に最適なベストセラーRTAシステム

AccuThermoシリーズ高速熱処理装置は、強力な可視~赤外光照射により、最大1250℃、昇温速度150℃/secでウェハの加熱処理を行う赤外線ランプアニール装置 (RTP・RTAシステム) です。 AccuThermo AW610Mは最大6インチウェハ、または2インチウェハ×4枚、3インチウェハ×3枚、156mm角PVセルのアニール処理に対応可能な大気圧RTP・RTAシステムで、研究開発・試作用途のほか、小ロット生産にも対応する高性能・高信頼性ランプアニールシステムです。

■アプリケーション

・イオン注入後の活性化処理 ・オーミックコンタクト形成 ・GaAs, GaN, InP, SiC 等 化合物半導体のアニール ・PZT、SBT等 強誘電体薄膜の結晶化アニール ・PVセルのアニール ・酸化膜生成 ・シリサイド形成,サリサイド形成 ・Polyシリコンのアニール処理

■特長

・コンパクトな卓上型システムで省スペース。 ・最高到達温度 1250℃、最高昇温速度 150℃/秒の高速熱処理に対応。※標準的なSiウェハ処理時 ・ランプゾーン出力制御 (6ゾーン) による均熱性の向上 (Δ10℃以内) ・非接触加熱、絶縁石英チューブ、コールドウォール構造によるクリーン熱処理。 ・パージ置換方式で残留酸素濃度 10ppm以下の熱処理に対応。 ・特許のERPパイロメーター (450℃ ~ 1250℃) ※オプション ・MFCによるプロセスガス流量制御 (プログラマブル、最大4系統のMFCを組み込み可能) ・RTAプロセスに最適化された温度制御アルゴリズム。 ・簡単なオペレーションで石英チューブ、石英トレイを取り外し交換することが可能。 (デポ物のクリーニング対応が容易) ・組み込みPCによるレシピ編集/保存、リアルタイムプロセスモニター、プロセスデータ管理。 ・ソフトウェア上でパイロメータキャリブレーションをはじめ各種キャリブレーションに対応。 ・ウォッチドッグタイマー、過昇温防止、冷却水循環流量監視 等の徹底された安全対策。

  • 型番

    AW610M

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大気圧ランプアニール装置 (RTP・RTA) AccuThermo AW610M AW610Mの性能表

商品画像 価格 (税抜) 対応基板サイズ 温度制御範囲 TC 温度制御範囲 (Option) Special-TC 温度制御範囲 (Option) パイロメータ 加熱方式 冷却方式 加熱方向 温度制御方式 昇温速度 降温速度 温度測定精度 面内温度均一性 ランプゾーン数 試料ローディング方式 プロセス処理室、試料搭載部 チャンバー材質 チャンバー冷却方式 プロセスガス種 プロセスガス系統数 プロセスガス流量制御範囲 登録レシピ数 レシピ当たりのステップ数 プロセス制御方式 ソフトウェアの主な機能 安全対策 外形寸法・重量 タイプ
大気圧ランプアニール装置 (RTP・RTA) AccuThermo AW610M-品番-AW610M 要見積もり [標準] φ3インチ ~ φ6インチ
[オプション] φ2インチ ~ φ4インチ
[オプション] 156mm × 156mm 角型基板
[オプション] サセプタ使用時:個片チップ~φ6インチ
100℃~800℃ 100℃~1,050℃ 450℃~1,250℃ 赤外線ランプ放射加熱 (1.2kW×21本,Top 10、Bottom 11) ガスパージによる強制空冷 上下面2方向 検出温度フィードバックによるクローズドループ制御 10℃/sec~150℃/sec 10℃/sec~150℃/sec TC:±1℃ (校正後) ,ERPパイロメータ:±4℃ (校正後) ΔT 10℃ 6ゾーン独立制御 フロントローディング (手動) 石英チューブ、石英トレイ アルミニウム合金+拡散反射Auコーティング 空冷・水冷併用 N2、O2、He、Ar、フォーミングガス (水素濃度5%程度) [標準] 1系統 (N2)
[オプション] 最大4系統
[標準] 0.2slpm~10slpm (MFCによる制御)
[オプション] 20sccm~1000sccm (MFCによる制御) 他
制限なし 最大40ステップ
(サイクリックアニールの場合、最大99ループ対応)
装置組み込みコンピューターボード、RTAProソフトウェア、17インチ液晶モニタ、キーボード、マウス ・リアルタイムプロセスモニタ
・レシピ編集、保存、読み出し
・プロセスデータリコール
・プロセスデータ出力 (Txt形式)
・各種キャリブレーション
・システム診断 etc.
非常停止SW、過昇温検出、冷却水監視、ドア開閉監視、ウォッチドッグタイマー etc. W660×D432×H366 mm・50kg 6インチ対応

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温度範囲 ℃

100 - 200 200 - 500 500 - 1,000 1,000 - 1,300 1,300 - 1,500 1,500 - 1,800

昇温速度 ℃/sec

10 - 25 25 - 50 50 - 100 100 - 150

降温速度 ℃/sec

10 - 50 50 - 100 100 - 150

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この商品の取り扱い会社情報

返答率

100.0%


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27.0時間

会社概要

ハイソル株式会社は、半導体、車載デバイス、センサー、LD・LED分野で、輸入製品の販売、及び、各種製造装置の開発・設計・製作・販売を行っている企業です。所在地は東京都台東区です。 1967年に、ウエスト・ボンド社製ワイヤ...

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  • 本社所在地: 東京都

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