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小型・卓上洗浄装置 卓上型加熱真空乾燥装置-富士ハイテック株式会社

卓上型加熱真空乾燥装置 | 小型・卓上洗浄装置 卓上型加熱真空乾燥装置
富士ハイテック株式会社

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洗浄槽寸法

φ250×200H

装置寸法

660Wx520Dx480H

超音波

300W 40KHz (28KHz)

必要設備

AC200V 15A

この製品について

真空中での加熱ができ、短時間乾燥

■特長

真空中での加熱ができ、短時間乾燥。コンパクト。

  • 型番

    卓上型加熱真空乾燥装置

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小型・卓上洗浄装置 卓上型加熱真空乾燥装置 卓上型加熱真空乾燥装置の性能表

商品画像 価格 (税抜) 洗浄槽寸法 装置寸法 超音波 必要設備 その他
小型・卓上洗浄装置 卓上型加熱真空乾燥装置-品番-卓上型加熱真空乾燥装置 要見積もり φ250×200H 660Wx520Dx480H 300W 40KHz (28KHz) AC200V 15A

加熱真空乾燥槽、ドライ真空ポンプ付


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使用用途

#医薬品製造 #化学品乾燥 #食品加工 #電子部品製造 #材料研究 #金属粉末処理 #セラミックス処理 #半導体製造

加熱方式

内熱方式 ホットエアージャケット方式

温度範囲 ℃

0 - 200 200 - 400 400 - 600 600 - 800

真空度 Pa

0 - 80,000 80,000 - 100,000

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

富士ハイテック株式会社は、工業用洗浄装置やキノコ生産省力化装置などを取り扱っている会社です。 1984年に、株式会社千代田製作所の工業用洗浄装置の総発売元として創立されました。 富士ハイテックは、洗浄物の様々な条件に...

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  • 本社所在地: 長野県

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