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電子銃
高輝度ショットキーエミッタ
SEMカラム
トリプル対物レンズ搭載TriglavTMカラム
電子光学系 分解能
標準モード 0.6nm at 15kV 1.2nm at 1kV ビーム減速モード 0.9nm at 1kV STEM 0.5nm at 30kV
最大観察視野
10mm at Max WD
電子光学系 加速電圧
50V~30kV
最大プローブ電流
400nA
FIBカラム
i-FIB+
イオン銃
Xe プラズマ FIB (ECRタイプ)
イオン光学系 分解能
<12nm at 30kV
イオン光学系 加速電圧
3kV~30kV
プローブ電流
1pA~3μA
SEM-FIB コインシデンス
WDSEM=5mm
型番
SOLARIS X取扱企業
株式会社東陽テクニカカテゴリ
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プラズマ装置の製品86点中、注目ランキング上位6点
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| 商品画像 | 価格 (税抜) | 電子銃 | SEMカラム | 電子光学系 分解能 | 最大観察視野 | 電子光学系 加速電圧 | 最大プローブ電流 | FIBカラム | イオン銃 | イオン光学系 分解能 | イオン光学系 加速電圧 | プローブ電流 | SEM-FIB コインシデンス |
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要見積もり | 高輝度ショットキーエミッタ | トリプル対物レンズ搭載TriglavTMカラム |
標準モード 0.6nm at 15kV 1.2nm at 1kV ビーム減速モード 0.9nm at 1kV STEM 0.5nm at 30kV |
10mm at Max WD | 50V~30kV | 400nA | i-FIB+ | Xe プラズマ FIB (ECRタイプ) | <12nm at 30kV | 3kV~30kV | 1pA~3μA | WDSEM=5mm |
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使用用途が半導体製造の製品
プラズマ装置をフィルターから探すことができます
使用用途
#フィルム処理 #医療機器加工 #研究開発 #光学部品加工 #材料開発 #接着強化処理 #洗浄除去処理 #電子部品製造 #薄膜形成 #半導体製造 #表面改質プラズマ生成方式
高周波放電型 マイクロ波放電型 パルス放電型 グロー放電型 アーク放電型作動圧力範囲
低圧プラズマ 大気圧プラズマプラズマ性質
非平衡型プラズマ 高密度プラズマ電源 V
100 - 200 200 - 300重量 kg
0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 4,000ガス系統
オプション 1系統 2系統 3系統プラズマ出力 W
0 - 100 100 - 600 600 - 1,100
