製品

株式会社ダン科学

東京都
1959年
35人

会社概要

株式会社ダン科学は1959年に設立された、半導体ウエハ洗浄装置の開発・製造をしているメーカーです。

半導体の製造過程で付着したウエハ表面の汚染物質などを除去する半導体ウエハ洗浄装置、精密部品表面の汚れなどを取り除く精密部品洗浄装置などの開発・設計・製造を行っています。その他にも、抗ウイルス・消臭ができるシャワーユニットなどの空気洗浄設備の開発もしています。

事業内容

ウェハ洗浄装置
　　４”６”８”と多種多様のお客様のニーズに対応しております。

カセットレスウェハ洗浄装置
　　８”１２”に対応した全自動の洗浄装置を供給させて頂いております。

精密部品洗浄装置
　　お客様の要望に応じた工程や製品にあった装置をフルカスタムで設計製造致します。

薬液供給装置
　　酸系、アルカリ系、溶剤系各種薬液に対応可能です。

ガラス基板洗浄装置
　　純水洗浄装置、現像装置各種装置製作可能です。優れた操作性、メンテナンス性など業界をリー
　　ドするパフォーマンスを備えております。

ケース・カセット洗浄装置
　　カセットからの発塵対策として、ウェハやガラス基板の各種ケース、カセットの洗浄装置を製作
　　しております。

会社沿革

1959年 東京都荒川区に設立
1969年 東京都八王子市に移転
1990年 ウェハ搬送装置､洗浄装置の特許出願(現在まで合計32件出願)
1996年 8“ウェハカセットレス洗浄装置納入開始
2000年 大型薬液供給装置を韓国に納入開始
2004年 フラットパネル洗浄装置納入開始
2006年 12“ウェハカセットレス洗浄装置納入開始
2008年 TFT生産設備一式を中国に移設
2009年 G10 IR乾燥装置納入開始
2013年 CF生産設備一式を中国に移設
2015年 CF生産設備一式を中国に移設
2017年 大型露光装置用循環冷却ユニット納入開始
2019年 CF生産設備製造ライン増設
2020年 ウィルス除菌装置開発

主要取引先

オリンパス株式会社
キオクシア株式会社
京セラ株式会社
株式会社SUMCO
芝浦メカトロニクス株式会社
信越化学工業株式会社
セイコーエプソン株式会社
株式会社デンソー
株式会社トクヤマ
直江津精密加工株式会社
直江津電子工業株式会社
ニデック株式会社
パナソニック株式会社
三菱電機株式会社
ルネサスエレクトロニクス株式会社
ローム株式会社
SK siltron Co.,Ltd.（韓国）
天津中環半導体股分有限公司（中国）
シャープ株式会社
株式会社ジャパンディスプレイ
ソニー株式会社
日本ガイシ株式会社
インテグリス・ジャパン株式会社
日本ポール製造株式会社
富士ゼロックス株式会社
ミネベアミツミ株式会社
株式会社ミラプロ
Western Digital Corporation（フィリピン、タイ）

郵便番号	〒192-0152
本社住所	東京都東京都八王子市美山町2161-5
創業年	1959年
資本金	48,000,000円
従業員数	35人
法人番号	7010101002284
リンク	株式会社ダン科学ホームページ