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有限会社渕田ナノ技研

  • 茨城県
  • 2004年
  • 4人
  • メーカー
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会社概要

有限会社渕田ナノ技研は、2004年に設立されたエアロゾル化ガスデポジション装置メーカーです。 製造拠点として茨城県に工場を設け、半導体基板の製造のために使用される密閉容器に入れられた微粒子をノズルで噴射することによって、対象表面に被膜を形成するエアロゾル化ガスデポジション装置の製造販売を主要な事業内容としています。また、主要な取引先として、京セラキンセキヘルツ株式会社や、ホンダエンジニアリング株式会社、コニカミノルタオプト株式会社などがあげられます。



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ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1-有限会社渕田ナノ技研
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有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1

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■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...

2種類の品番

高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1 80×80-ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1
高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1 100×100-ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.8mm×1

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.3mm×1-有限会社渕田ナノ技研
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ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱10kw ノズル径φ0.3mm×1

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■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅10mm×1本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅10mm×1本

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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×2本

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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅120mm×1本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅120mm×1本

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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


ガスデポジション (GD) 装置 抵抗加熱650° ノズル径φ0.8mm×2-有限会社渕田ナノ技研
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ガスデポジション (GD) 装置 抵抗加熱650° ノズル径φ0.8mm×2

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■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱20kw/5kw-有限会社渕田ナノ技研
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ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱20kw/5kw

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■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×1本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×1本

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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×4本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×4本

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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅30mm×2本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅30mm×2本

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■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱30kw ノズル径φ1mm×1-有限会社渕田ナノ技研
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ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱30kw ノズル径φ1mm×1

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■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱5kw ノズル径φ0.8mm×1-有限会社渕田ナノ技研
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有限会社渕田ナノ技研

ガスデポジション (GD) 装置 高周波誘導加熱5kw ノズル径φ0.8mm×1

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■概要 ガス中で作製されたナノ粒子はガス搬送され、ノズルから対向する基材へ噴射堆積される。活性なナノ粒子を膜形成に利用するために...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅30mm×1本-有限会社渕田ナノ技研
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有限会社渕田ナノ技研

エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅30mm×1本

■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×3本-有限会社渕田ナノ技研
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エアロゾル化ガスデポジション (AGD) 装置 ノズル幅5mm×3本

■概要 セラミックスの常温成膜装置である。微粒子を密閉容器に入れ、ガスを導入し、エアロゾルを作る。巻き上げられた粒子は、ガスと共...


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渕田ナノ技研　成膜装置

会社基本情報

郵便番号 〒305-0822
本社住所 茨城県つくば市苅間 1561-3
創業年 2004年
従業員数 4人
会社区分 メーカー
リンク 有限会社渕田ナノ技研 ホームページ

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