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HUGパワー株式会社
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■半導体向け/ASTE (アステ) エッチング後のポリマ除去/ウェハ上の異物除去に有効 ■高価なアミン系剥離剤がいらない アミン系剥離剤の...
HUGパワー株式会社
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■レジスト剥離/AURORA (オーロラ) 硫酸、有機溶剤などの危険な化学薬品をなくすことが可能 ■硫酸がいらない 高ドーズイオン注入後のレ...
HUGパワー株式会社
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■Handy typeの用途 ・切削油、切削屑の除去 ・研磨後の洗浄 ・研磨剤の目立て ・頑固な汚れの除去 ・塗装前の油脂、指紋除去 ■蒸気2流...
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用途及び特徴・用力は電気と水のみ・油、塗料、化粧品の調合器の汚れ落としが得意・低圧(0.2MPa以下)なのでダメージが少ない
2024年4月18日
エッチング後のポリマ除去/ウェハ上の異物除去に有効主な用途・有機物除去・切削屑の除去・金属膜のリフトオフ
2024年4月18日
郵便番号 | 〒226-8501 |
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本社住所 | 神奈川県横浜市緑区長津田町4259番 東京科学大学J3研究棟409 |
創業年 | 2012年 |
資本金 | 71,000,000円 |
従業員数 | 9人 |
法人番号 | 7130001049934 |
会社区分 | メーカー |
リンク | HUGパワー株式会社 ホームページ |
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