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株式会社高純度物質研究所

  • 東京都
  • 1960年
  • 62人
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会社概要

タンタルコンデンサにおいて電極となる「素子」は最も重要な構成要素であり、 その製造技術は粉体を特定の密度で成形・焼結することに特徴があります。
粉体を低密度で、しかも指定した密度で加工するのは、かなり特殊な技術と言えます。
「研究」と「生産」のどちらにおいても、注意深い現状分析、大胆な発想、たゆまぬ探求心が「結果」を生み出すことを信じ、お客様の要求に応えてまいります。
私たちは本当に小さな力ですが、「お客様に学ぶ」を信条として成長を続けたいと考えております。

事業内容

タンタルコンデンサ陽極素子生産・開発
生産設備を自社内で設計・製作

会社沿革

1960年 (有)高純度物質研究所、資本金70万円で設立
1967年 世界初、連続真空焼却炉(8F)稼動
1970年 東村山に工場建設
1978年 PEC型ミニチュアコンデンサ製造開始
1979年 角形ペレット試作始める
1984年 月産3,000万個、月間売上1億円達成
1987年 月産4,000万個達成
1991年 月産8,000万個達成、資本金5,700万円に増資
1995年 月産1億個達成、久米川工場・会津工場稼動
2000年 月産3億個達成、本社工場増築、サンアイ工業(株)吸収
2004年 ISO14001認証取得、国分寺工場増築、久米川工場・会津工場が本社工場へ統合
2012年 ISO9001認証取得

主要取引先

主要タンタルコンデンサメーカー


会社基本情報

郵便番号 〒189-0003
本社住所 東京都東村山久米川町5-30-1
創業年 1960年
資本金 96,900,000円
従業員数 62人
リンク 株式会社高純度物質研究所 ホームページ

事業所情報

株式会社高純度物質研究所の生産・加工施設が全国で1箇所登録されています。

生産・加工施設

東京都で株式会社高純度物質研究所の生産・加工施設が1箇所登録されています。

国分寺工場 生産・加工施設

〒185-0021 東京都国分寺市南町1-11-10

事業所情報について

事業所はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。

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