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株式会社サンバック
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サーマルCVD装置CT-5500はポリSi (第1炉) 、SiO、PSG、BSG (第2炉) 、Si3N4 (第3炉) をコーティングできます。各炉は、それぞれ独立した...
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炭化ケイ素 (SiC) に代表される超高温材料は、その生成温度と濃度によって様々な結晶構造をとります。サーマルCVD装置CT-6000はこれらの...
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プラズマCVD装置CP-1700は縦型石英管の外周に置かれたコイルによって発生したプラズマ中を、ヒーターを内蔵した基板ホルダーを上下する...
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プラズマCVD装置CP-1900はステンレスチャンバー内に置かれた基板に発生したプラズマにより、成膜します。上部電極は、ガスシャワーが装...
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MOCVD装置CM-8000は上部はガスシャワーになっており、RFプラズマを印加する事ができます。また下部は800℃に加熱しながら回転できる基板...
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レーザーCVD装置CL-12000は高出力エキシマレーザーを使って、ヒーターの埋め込まれた100mm角の基板ホルダー上に成膜するレーザーCVD装置...
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マイクロ波CVD装置SDM-2はマイクロ波CVDによるダイヤモンド薄膜の試験製造装置。シリコンウエハ上に直径10mm程度、厚み10μ以上のダイヤ...
サンバックのCVD装置7製品中の注目ランキング
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