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#高硬度薄膜

成膜方式

PECVD

原料供給方式

直接ガス供給

MPSのCVD装置

2 点の製品がみつかりました

2 点の製品

株式会社MPS

高圧パルスプラズマCVD装置

360人以上が見ています

最新の閲覧: 17時間前

100.0% 返答率

48.0時間 返答時間

■概要 直流の高電圧パルス放電を利用したダイヤモンドライクカーボン用プラズマCVD装置です。原料ガスはメタンまたはアセチレンを選択で...


株式会社MPS

RFプラズマCVD装置

390人以上が見ています

最新の閲覧: 6分前

100.0% 返答率

48.0時間 返答時間

■概要 RF (13.56MHz) を使用したプラズマCVD装置です。絶縁物でもDLCの成膜が可能です。




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