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テルモセラ・ジャパンのCVD装置

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3 点の製品

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テルモセラ・ジャパン株式会社

nanoCVD グラフェン/CNT 合成装置

最新の閲覧: 21時間前

■特徴 ・わずか『30分』でグラフェン/CNTを生成 ・コールドウオール式高速・高精度プロセスコントロール ・今日右側加熱ステージ:RT→Max1,100℃/約3分 ・高精...


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テルモセラ・ジャパン株式会社

Nanofurnace 卓上型 熱CVD 装置 Model. BWS-NANO

最新の閲覧: 10時間前

■用途 ・グラフェン合成 ・カーボンナノチューブ ・ZnO ナノワイヤー ・ナノダイヤモンド ・絶縁膜・保護膜 (Sic, TiN 他) ・その他熱 CVD 用途全般 ■特徴 ...


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テルモセラ・ジャパン株式会社

ウエハースケールグラフェン合成装置 nanoCVD-WGP

最新の閲覧: 22時間前

■概要 欧州のアカデミックパートナー (Manchester, Warwick,etc..) の協力の下、実績ある卓上型 nanoCVD-8G (試 料サイズ 20mm) に加え、更にウエハースケー...


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