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アリオスの成膜装置

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4 点の製品

アリオス株式会社

ダイヤモンド合成用HF-CVD装置 HFCVDシリーズ

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■概要 本装置は、ダイヤモンド合成を本格的に行うためのホットフィラメント型CVD装置です。基本システムに加え各種オプションを選択する...


アリオス株式会社

小型スパッタ装置 SS-DC RF301

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■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色...


アリオス株式会社

プラズマCVD実験装置 PCVD-R100

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■概要 CVDとは、Chemical Vapor Deposition (化学蒸着装置) の略称で、ガスで原料を供給し、これをプラズマや熱などで分解し、その成分...


アリオス株式会社

スパッタ装置

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■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較...




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