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魁半導体のALD装置

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株式会社魁半導体

真空 直接気化式-薄膜形成装置 DH-CVD

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100.0% 返答率

61.2時間 返答時間

業界初、液体原料から直接成膜する安全なプラズマ CVD。 ■製品概要 ・魁半導体独自の「DH-CVD」技術を応用した薄膜形成装置 ・有機金属...


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