真空蒸着とは
真空蒸着とは、材料を真空下で加熱して蒸発させ、基板の表面に薄膜を形成する成膜技術です。
材料を均一にコーティングすることが可能であり、高精度な成膜が求められる場面で利用されています。
この技術は、半導体や電子部品、光学部品など多くの製品に活用されています。特に、不純物の混入を防ぎながら均一な膜を形成できるため、性能や機能性の向上に有効です。また、真空蒸着は200度程度の温度でも成膜できるため、熱に弱い基板にも利用できます。
真空蒸着の使用用途
真空蒸着は、高い成膜精度と汎用性からさまざまな用途で利用されています。ここでは、代表的な使用用途を3つ紹介します。
1. 光学機器の薄膜コーティング
光学機器では、反射防止膜や高反射膜の形成に真空蒸着が用いられます。光学機器に機能性を持った薄膜を作ることで、光の透過率を向上させたり、不要な反射を抑えたりすることが可能です。また、レーザー機器や有機ELパネルの製造にも利用されており、多くの光学機器の性能向上に役立っています。
2. 太陽電池の薄膜製作
太陽電池の発電効率向上には、高品質な薄膜の形成が不可欠です。真空蒸着では、均一な膜を形成できるため、太陽電池の電極製作に用いられています。安定した成膜により、エネルギー変換効率の向上や研究の高度化に役立っています。また、作業者の技術に依存することなく安定した薄膜を作れるため、再現性の高い実験データの取得が可能です。
3. 金属装飾と防錆コーティング
真空蒸着は装飾用途としても活用され、自動車のエンブレムや時計の部品などに使用されます。金属光沢を持つ美しい仕上がりとなり、高級感を演出できます。具体的には、自動車の反射器や、化粧品のキャップ部分などの塗装に、真空蒸着が活用されています。また、真空蒸着で金属膜を形成することで、防錆性を高めることが可能です。内部の素材にかかわらず、さびに強い製品とすることができます。