熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ
アルバック販売株式会社
この製品について
■概要
2inから300mmまでの高速熱処理。保持まで10秒。高速加熱技術を結集し、研究開発から生産用までお客様のニーズにお応えした装置を製造・販売いたします。最大温度1,450℃の高温雰囲気下での加熱も対応いたします。■用途
・LED基板アニール ・活性化アニール ・SiCウェハーのアニール ・パワーデバイスのアニール ・シリサイド形成・サリサイド形成 ・酸化雰囲気対応可能■特長
・高速熱処理が可能 ・コールドウォール構造の為、重金属汚染がありません ・CtoCロボット搬送システム対応可能 ・製造工程装置との組み合わせ・連結が可能-
シリーズ
熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ
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取扱企業
アルバック販売株式会社
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熱処理・加熱装置 赤外線イメージ炉 実験用途 赤外線ランプアニール装置 RTAシリーズ 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 試料寸法 | 温度範囲 | 測定雰囲気 | アプリケーション |
|---|---|---|---|---|---|---|
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RTA-2000 |
要見積もり | 2in | 室温~1,000℃ (温度範囲もカスタム可能) | 各種雰囲気下で対応可能 |
CtoC対応 前後工程装置との連結 カスタマイズ可能 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
