プラズマクリーナー G1000
ハイソル株式会社
この製品について
G1000は、ガスプラズマのエッチング効果を利用して低圧環境下で洗浄対象物の表面をクリーニングするシステムです。ご用途に合わせて使用するガスを選択することにより、有機質のみならず無機質汚染も確実に除去します。HIC基板やリードフレームのボンディング面洗浄によるボンディング強度の向上や、表面改質 (親水化) による濡れ性改善に最適なシステムです。
■アプリケーション
・有機物 (レジストなど) のエッチング ・コンタミ、フラックスの除去 ・ワイヤーボンディング面の洗浄－ボンディング強度向上 ・表面の親水性向上－ダイアタッチ・モールド前処理 ・表面張力コントロール etc…■装置特長
・平行平板方式のチャンバーにより、洗浄対象の表面にムラなくプラズマ照射 ・洗浄対象に応じて、エレクトロンフリープラズマ、アクティブプラズマなど、5種類の強度の異なるプラズマモードから選択 ・12種類のクリーニング条件をメモリー可能、装置前面のタッチパネルにより、容易にレシピ設定および操作を行うことができます ・40kHzのLFプラズマ電源により、高周波 (13.56MHz) と比較して効率よくプラズマ照射 (ワークへのへの熱ストレスが少ない) ・任意のガス3種を選択可能、オプションのマスフローコントローラでCPUによるガス混合、流量コントロールが可能■チャンバーデザイン
YES社のプラズマクリーナーのチャンバー内にはトレイをセットする為の14個のスリットが設けられています。穴の開いたトレイは計12枚付属しており、電極及びワーク保持台として機能します。 トレイには、アクティブトレイ (+) 、グラウンドトレイ (-) と、チャンバーから絶縁されたフローティングトレイの3種類があり、アクティブトレイとグラウンドトレイの間にプラズマが発生します。■5種類のプラズマモード
洗浄対象に応じて、以下の5種類のプラズマモードを使い分けることができます。 ・ダウンストリームエレクトロンフリープラズマ (静電破壊などを起こしやすいワークに最適) ・ダウンストリームエレクトロンフリーイオントラップ (静電破壊を起こしやすいワークへ用の強いモード) ・アクティブプラズマ (HIC基板、リードフレームなど) ・RIEモードプラズマ (強力なクリーニング効果) ・アクティブイオントラップ (もっとも強力なプラズマ効果)-
シリーズ
プラズマクリーナー G1000
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取扱企業
ハイソル株式会社
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カテゴリ
プラズマクリーナー G1000 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | クリーン度 | 動作温度 | チャンバーサイズ (約) W×D×H | 本体サイズ (約) W×D×H | 重量 | N2ガス消費量 | プロセスガス種類 | プロセスガス系統 | プロセスガス消費量 | マスフローコントローラ | レシピ数 | プラズマ照射時間 | 設定分解能 | RFプラズマ出力 | 消費電力 | 電源 |
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G1000 |
要見積もり | Class 10 | 20–100 ℃ | 45×45×30 cm | 60×71×113 cm | 159 kg | 最大 1.7 SCFM | 酸素、Ar、N2、水素 (7%の混合ガス) / 要相談：CF4、SF6 | 3系統 (オプション 1系統増設可) | 20 – 50 SCCM | オプション 最大3個 | 12レシピ | 0 – 1,200 秒 | 1秒 | 40kHz, 0 – 1,000 W | 平均 640W、最大 1,000W | 単相 200 – 250V, 20A, 50/60Hz |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
