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マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000-F3000
マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000-株式会社アドバンテスト

マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000
株式会社アドバンテスト

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この製品について

■特徴

・マスクレスによる多品種・少量生産を低コスト・短TATで実現 ・65nmノード以降の微細化に対応 ・ブロック露光による高スループットを実現

■マスクレスによる低コスト・短TATを実現

現在主流である光露光方式では、微細化の進展による光マスクのコスト高騰、マスク製造日数の増加によるSoC開発工期の長期化が、より深刻な問題となっています。電子ビーム露光装置は、光マスクを用いない (マスクレス) でウエハに直接描画することにより、少量多品種においてマスク負担を軽減し、低コスト・短TATを実現します。

■65nmノード以降の微細化に対応

F3000は、これまで培ってきた高解像電子光学系や高信頼性・高稼働率を実現するための機能に加え、高剛性ボディ採用などの各種改良を行いました。これにより、パターン微細化で問題となる露光位置精度や寸法精度を向上させ、65nmノード以降の微細化に対応しています。 ブロック露光で高スループットを実現F3000は、露光する際に繰り返しの多いパターン群を抽出し、この単位 (ブロック) ごとにウエハ上に一括して電子ビームを照射する方式を採用しています。これにより、一つ一つのパターンを個別に照射していく従来方式に比べ、電子ビームの照射数を大幅に削減することが可能となり、高スループットを実現しました。

  • シリーズ

    マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000

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マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 対応ウエハサイズ 最小線幅 寸法精度 重ね合わせ精度 露光方式 ブロック選択個数 ブロック倍率
マスクレスで65nmノード以降の微細加工対応を実現 電子ビーム露光装置 F3000-品番-F3000

F3000

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会社概要

株式会社アドバンテストは、計測技術をコアテクノロジーとするテスト・ソリューションカンパニーです。

1954年の創業以来、エレクトロニクスの発展とともに成長し、人びとの暮らしの「安全・安心・心地よい」をサ...

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