レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS
株式会社日本レーザー
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この製品について
■原理
粒子に対して平行光を照射すると、無限遠上に回折像が得られます (フラウンホーファ回折) 。この回折像は光軸と垂直方向に展開する明暗パターンであり、そのパターンは粒子の粒径と形状で一義的に決まります。 つまり、回折像の明暗の強度分布を検出することで、その粒子の粒径を解析できます。このパターンを過不足なく検出するには、同心円状のセンサが必要です。 実際の装置では、半円状のセンサが用いられます。これは、回折像が粒子の形状に依らず点対称なパターンになるためです。また、測定粒子の後段にレンズを配置することで、無限遠上ではなく、その焦点位置に回折像が得られるように構成されています。 さらに、実際の測定試料には様々な粒径の粒子が含まれるため、その回折像は個々の粒径の重ね合わせになります。これを検出後に専用のアルゴリズムで各成分ごとに分解することで、その粒度分布が得られます。■特長
HELOSシステムはモジュール性が高く、測定試料に応じて分散器や測定レンジを組合わせることで、最適な測定環境を構築できます。分散器は乾式・湿式ともに選択できるため、乾燥試料は乾式で、湿潤試料は湿式で、試料をそのままの状態で測定できます。 また、厳密なフーリエ光学系を採用しているため、測定エリアが広く、その全域で優れた解像力を発揮します。そのため、乾式測定の際にもセルやキュベットで測定エリアを制限する必要がなく、粉末でさえも測定エリア内にエアロゾル状に分散させて測定できます。 分散した粉末がセルやキュベット内で再凝集することがないため、信頼性の高い測定が可能です。測定中は毎秒2,000回ものサンプリング (データ抽出) を行います。そのため、エアロゾル状の高速気流でも個々の試料を正確に抽出できるだけでなく、少量の試料でも十分なサンプルサイズが得られます。■応用例
医薬品、化成品、磁性材料、鉱物、金属粉末、スプレーミストなど-
シリーズ
レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS
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取扱企業
株式会社日本レーザー
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レーザー回折式 粒度分布測定装置 HELOS 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 測定範囲 | 測定速度 | 分散圧 | 解析方法 |
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HELOS |
要見積もり | 0.1~3,500µm | 2,000Hz | 最大6bar | Fraunhofer回折理論、Mie散乱理論 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
