無機分析 シリコンウェハー酸素分析装置 O836Si型
LECOジャパン合同会社
この製品について
■シリコン業界における需要に応えるために開発されたシリコンウェハー専用酸素分析装置
O836Siは、シリコン業界における低濃度・高精度酸素分析の需要に応えるために開発された、シリコンウェハー専用酸素分析装置です。高い精度を誇る非分散型赤外線検出器、最新のサンプルローディングシステムとプログラム可能なインパルス炉の組み合わせで正確・高精度な酸素分析を可能にします。■分析対象物
シリコンウェハー・鉄鋼等金属・その他 特長と利点■主な特徴
・低濃度用、高精度な非分散型赤外線検出器 ・測定結果はppmaでの表示も可能■機能的なサンプルローディングエリア
・シリコンウェハーとブロック試料の両方に対応したユニバーサルデザインのローディングヘッドを採用 ・サンプル投入時の大気の巻き込みが最小限に ・サンプルドロップ機構の定期メンテナンスを簡易化 ・OMIチューブ (キャリアガス中の酸素水分除去試薬) が、交換しやすく、またバイパスすることにより長寿命化を実現■信頼性の高い自動化機構
・オプションのオートクリーナーを取り付ける事でサンプル間の手動クリーニングが最小限に ・オプションの20サンプル用バッチローダーも取り付け可能■その他
・フレキシブルアームに取り付けられたタッチパネル式インターフェイスで人間工学に基づいた直感的なオペレーションが可能 ・圧力補正、温度コントロールされたガスドーズシステム ・最新の配管は破損やリークの原因となる継ぎ目を最小限に-
シリーズ
無機分析 シリコンウェハー酸素分析装置 O836Si型
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取扱企業
LECOジャパン合同会社
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無機分析 シリコンウェハー酸素分析装置 O836Si型 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 分析範囲 (試料重量0.3 g) | 分析精度 (試料重量0.3 g) | 分析時間 | サイクルタイム | キャリブレーション | 試料量 | 検出方法 | 試薬 | ガス流量 | 炉 | 冷却水 | 動作環境 | 電源容量 | 使用ガス キャリアガス | 使用ガス 駆動ガス | 使用ガス ガスドーズ | 寸法 | 重量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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O836Si |
要見積もり |
0.1 ppm~500 ppm ※分析範囲は試料の種類や分析パラメーターによって異なります。 |
標準偏差 (s) 0.05 ppm または RSD 0.3% ※いずれか大きい方 ※分析精度は装置ブランクの標準偏差 (1s) であり、試料の種類や分析パラメーターによって異なります。 |
ヘリウム 110秒 アルゴン 120秒 |
ヘリウム 280秒 アルゴン 290秒 |
標準試料 / 1点または多点 / 手動 / ガスドーズ | 通常 1.0 g、0.25 g~0.70 g (シリコン分析) | 非分散型赤外線吸収法 |
・過塩素酸マグネシウム ・レアアースベース酸化銅、還元銅 ・水酸化ナトリウム (不活性基質にコーティング) ・酸素水分除去試薬 (OMIチューブ) |
キャリア：460 cc/分 駆動ガス：280 cc/分析 |
電極炉、電流・パワー制御、最大7500 W、水冷式 | 3.2 L、LECO Coolant |
温度 15℃~35℃ 相対湿度 20%~80% (結露なし) |
単相200 V~ (+10/-15％：最大出力、230 Vに昇圧して使用) 、50/60 Hz、60 A、12,500 BTU/hr※通常設定での運転時平均。 |
ヘリウム (99.99%) 、0.15 MPa ±5% アルゴン (99.999%) 、0.15 MPa ±5% |
圧縮空気または窒素 (水分・油分が含まれないこと) 0.28 MPa ±10% | 二酸化炭素 (99.99%) 、0.14 MPa ±10% |
幅：71 cm × 奥行：76 cm x 高さ：91.5 cm (通常) ※マウント式タッチスクリーンなしの場合 (ありの場合の奥行：80 cm) ※ロードヘッドカバーリフト時の高さ：100 cm |
186 kg |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
