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無機分析 シリコンウェハー酸素分析装置 O836Si型取扱企業
LECOジャパン合同会社カテゴリ
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| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 分析範囲 (試料重量0.3 g) | 分析精度 (試料重量0.3 g) | 分析時間 | サイクルタイム | キャリブレーション | 試料量 | 検出方法 | 試薬 | ガス流量 | 炉 | 冷却水 | 動作環境 | 電源容量 | 使用ガス キャリアガス | 使用ガス 駆動ガス | 使用ガス ガスドーズ | 寸法 | 重量 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
|
O836Si |
要見積もり |
0.1 ppm~500 ppm |
標準偏差 (s) 0.05 ppm または RSD 0.3% ※いずれか大きい方 |
ヘリウム 110秒 |
ヘリウム 280秒 |
標準試料 / 1点または多点 / 手動 / ガスドーズ |
通常 1.0 g、0.25 g~0.70 g (シリコン分析) |
非分散型赤外線吸収法 |
・過塩素酸マグネシウム |
キャリア：460 cc/分 |
電極炉、電流・パワー制御、最大7500 W、水冷式 |
3.2 L、LECO Coolant |
温度 15℃~35℃ |
単相200 V~ (+10/-15％：最大出力、230 Vに昇圧して使用) 、50/60 Hz、60 A、12,500 BTU/hr※通常設定での運転時平均。 |
ヘリウム (99.99%) 、0.15 MPa ±5% |
圧縮空気または窒素 (水分・油分が含まれないこと) 0.28 MPa ±10% |
二酸化炭素 (99.99%) 、0.14 MPa ±10% |
幅：71 cm × 奥行：76 cm x 高さ：91.5 cm (通常) |
186 kg |
