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紫外線 (UV) レーザー装置 レーザーシステム PLU-20-PLU-20
紫外線 (UV) レーザー装置 レーザーシステム PLU-20-Physical Photon株式会社

紫外線 (UV) レーザー装置 レーザーシステム PLU-20
Physical Photon株式会社

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この製品について

■UVレーザー特徴

・紫外線波長 (UV) は光子の持つエネルギーが大きいので有機物に照射すると分子結合を直接解離することができる。 ・光分解加工となるため、電子部品や有機材料、今まで加工が困難であった材質に対して、熱影響の少ない加工が実現出来る。

■PLUシリーズ

当社UVレーザ加工機PLUシリーズは、出力ラインナップは3Wから20Wまで備え、各種材料への印字や剥離、表面クリーニング、また切断などの要求に応えることができます。 短波長、ナノ秒パルス幅の特性を生かした低熱加工が可能であり、加工点周辺への熱影響を最小限にしたプロセスのご提案が可能です。当社のUVレーザは独自の波長変換素子の自動交換機構をオプションで用意しており、光学系寿命アップに期待できます。

■応用分野

・紫外線レーザーは電子、半導体、医療、バイオ系などの生産分野で世界中で採用されている。 ・LED用のサファイア基板スクライビング、PCBへの微細穴あけ、液晶リペア、光造形、FPD用のITO膜剥離、FPD用のガラスパネルマーキングや切断、セラミック基板への加工、医療器具の錆びないマーキングなどで実用的に使用されている。

  • シリーズ

    紫外線 (UV) レーザー装置 レーザーシステム PLU-20

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紫外線 (UV) レーザー装置 レーザーシステム PLU-20 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 波長 (nm) M2 出力 (W) パルス (ns) 周波数 (KHz) 繰返し精度 (mm) 冷却方式 動作温度 電源電圧 (VAC)
紫外線 (UV) レーザー装置 レーザーシステム PLU-20-品番-PLU-20

PLU-20

要見積もり

355

<1.2

20

15

~200

±0.005

水冷

15~30

90~260

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使用用途

#微細加工 #表面改質 #落版除去 #接合強化 #輪郭形成

種類

ファイバ型 CO2型 YAG型 UV型 ピコ秒型 フェムト秒型

加工方式

パルス型 連続波型 同軸走査型

機能特性

低熱影響型 高出力型 高速走査型 高精度焦点型

対応材料

金属特化型 樹脂特化型 ガラス特化型 薄膜特化型

レーザー出力 W

0 - 10 10 - 30 30 - 60 60 - 100 100 - 200 200 - 1,000 1,000 - 20,000

レーザー種類

CO2レーザー シールドタイプCO2レーザー 半導体レーザー ファイバーレーザー 炭酸ガスレーザー YVO4レーザー 固体レーザー

電源仕様

AC200V AC220V

冷却方式

空冷 水冷

最大消費電力 W

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,000

本体重量 kg

0 - 100 100 - 500 500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 4,000

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

Physical Photon株式会社は、2013年に設立された産業用機械製造メーカーです。 本社を千葉県松戸市に置き、中国上海にも海外拠点を設けています。 主な取引先として、オリンパス株式会社やNITTOKU株式会社、...

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  • 本社所在地: 千葉県
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