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卓上型UV照射装置 MUV2100 オゾン型-MUV2100
卓上型UV照射装置 MUV2100 オゾン型-株式会社メープル

卓上型UV照射装置 MUV2100 オゾン型
株式会社メープル

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この製品について

大型基板の処理が可能、試料にダメージを与えず高度な洗浄

■特徴

・最大φ300mmのシリコンウエハ、ガラスなどの基盤 (試料) にUV照射を行い、表面の有機物を除去し濡れ性を向上させることができます。 ・基盤 (試料) ホルダーの上下、または取替えが容易なため、厚みのある基盤 (試料) を処理することが可能となります。 ・オゾン発生型装置はガス導入機構を装備し酸素ガス導入により高濃度のオゾン発生が可能となり、高いクリーニング効果が実現できます。 ・基盤 (試料) セット後の処理は自動運転が可能です。 ・紫外線とオゾンが発生するので、洗浄時に蓋が開かないなど各種インターロックを標準装備しています。

  • シリーズ

    卓上型UV照射装置 MUV2100 オゾン型

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卓上型UV照射装置 MUV2100 オゾン型 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
卓上型UV照射装置 MUV2100 オゾン型-品番-MUV2100

MUV2100

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使用用途

#殺菌 #硬化 #実験研究 #半導体 #印刷 #医療 #接着 #乾燥

発光方式

高圧水銀ランプ型 メタルハライドランプ型 エキシマランプ型 UVLED型

波長領域

UVA型 UVB型 UVC型

照射方式

スポット型 フラッド型 ライン型

冷却方式

空冷式 水冷式 空冷 水冷

ランプ出力 W/cm

50 - 100 100 - 200 200 - 300 300 - 500

波長 nm

150 - 200 200 - 300 300 - 350 350 - 400 400 - 450

照射強度 mW/cm²

0 - 100 100 - 1,000 1,000 - 5,000 5,000 - 15,000

消費電力 W

0 - 10 10 - 100 100 - 500 500 - 2,000

ランプ寿命 時間

500 - 1,000 1,000 - 2,000 2,000 - 3,000 3,000 - 8,000 8,000 - 30,000

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  • 本社所在地: 神奈川県

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