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電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント・リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx-H-SiOx
電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント・リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx-オプトシリウス株式会社

電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント・リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx
オプトシリウス株式会社



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この製品について

■粉体のレジストならではの特徴

・⾧期間の保管が可能です …1年間の保管期間 ・いつも同じ粘度で使えます …使用前に溶媒と混合して使うので増粘しません ・広い範囲の厚さの膜を作れます …粘度を調整する事ができます ・5nm の膜厚、7nm の解像度 …最新のテストで達成しました ・廃棄する量を減らせます …⾧期保存ができ、少量単位で購入出来ます ・しっかりしたサポート体制 …経験豊富な AQM 社がサポート ・優れた LER (Line Edge Roughness) ・強いドライエッチングに対する耐性

  • シリーズ

    電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント・リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx

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電子ビーム描画装置、EUV 露光装置、ナノインプリント・リソグラフィー向け ネガ型 粉体のレジスト H-SiOx 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

オプトシリウス株式会社は、分光器、積分球、光関連部品等の輸入販売・サポート及び、分光器関連アプリケーションのソフト開発を行っている会社です。
世界トップのシェアを持つオーシャンオプティクス社の小型分光器や、世界標...

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  • 本社所在地: 東京都
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