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ナノ構造による低反射な反射防止膜 WAB-AR-WAB-AR
ナノ構造による低反射な反射防止膜 WAB-AR-株式会社シンクロン

ナノ構造による低反射な反射防止膜 WAB-AR
株式会社シンクロン



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この製品について

■概要

RASで実現する広視野角で低反射な反射防止膜。RASの成膜プロセスとウェットプロセスを用い、ナノスケールオーダーの表面形状や膜密度を制御することで、可視光から近赤外光までの様々な波長帯域の反射防止膜が成膜可能です。※WAB-ARは東海光学株式会社様との協業商品です

■特徴

・ガラスや樹脂など様々な基材やレンズで低反射が可能です ・従来の誘電体多層反射防止膜と比べ、高入射角度でも低反射率です ・可視光から近赤外の広帯域な反射防止膜が可能です ・超親水性の膜であり、防曇効果があります ・高温環境下でもクラックが発生しにくく、リフロー工程に使用可能です ・既存のRAS装置改造によりWAB-ARができます

■主な用途

・光学 ・表面の制御 ・カメラレンズのARコーティング (スマートフォン、車載、デジカメなど) ・窓材の内部コーティング ・耐リフローARコーティング

  • シリーズ

    ナノ構造による低反射な反射防止膜 WAB-AR

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ナノ構造による低反射な反射防止膜 WAB-AR 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜)
ナノ構造による低反射な反射防止膜 WAB-AR-品番-WAB-AR

WAB-AR

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使用用途

#カメラレンズ #サイネージ #スマートフォン #タブレット #テレビ #ノートパソコン #医療機器 #光学機器 #車載ディスプレイ #照明機器

全光線透過率 %

0 - 70 70 - 90 90 - 93 93 - 96

ヘイズ %

0 - 10 10 - 20 20 - 30 30 - 60 60 - 90

反射率 %

0 - 1 1 - 2

鉛筆硬度 H

1 - 2 2 - 3 3 - 9

厚み µm

0 - 1 1 - 100 100 - 200 200 - 500 500 - 5,000

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

株式会社シンクロンは、1960年に設立された、真空薄膜形成装置等の開発・設計・製造を行う企業です。 1951年に有限会社真空器械研究所として創業して以来、真空を用いた薄膜形成技術による製品の開発・製造を進めています。主...

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  • 本社所在地: 神奈川県

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