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半導体結晶表面改質装置 CSR-2400-CSR-2400
半導体結晶表面改質装置 CSR-2400-株式会社サンバック

半導体結晶表面改質装置 CSR-2400
株式会社サンバック

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この製品について

半導体結晶表面改質装置CSR-2400はAr中で2,400℃まで加熱でき、半導体結晶表面改質後、装備のRHEED電子銃にて表面構造をその場観察することを目的としています。またガス種を付属することでSiC液相エピタキシャルや高温熱処理炉としても使用できます。

  • シリーズ

    半導体結晶表面改質装置 CSR-2400

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半導体結晶表面改質装置 CSR-2400 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 到達圧力 加熱温度 均熱帯 圧力制御範囲 加熱方法 真空排気系 真空計 温度制御 ガス制御 試料昇降機構 RHEED
半導体結晶表面改質装置 CSR-2400-品番-CSR-2400

CSR-2400

要見積もり

×10-4Pa以下※常温・無負荷時

max2,400℃

φ50mm×50mmH

常圧~13.3Pa

高周波誘導加熱
高周波電源30kHz30kW
整合器

ドライポンプ：500L/min
ターボ分子ポンプ：550L/sec

サーモカップル真空計/電離真空計/バラトロン真空計

放射温度計 (500~3,500℃)
プログラム温度調節計

APCコントローラ/排気スロットルバルブ
Arマスフローコントローラ

上下昇降・回転機能

VE-052S
蛍光スクリーン/防着シャッター/CCDカメラ

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使用用途

#アニール #ガス雰囲気処理 #セラミックス処理 #乾燥 #焼結 #焼鈍 #焼入 #脱脂 #熱処理試験 #雰囲気制御 #溶解

加熱方式

電気 ガス インダクション 赤外線

加熱対象

金属 セラミック プラスチック

形状

立式 横型

構造

真空 アルゴン 断熱

温度管理

恒温 高温 過熱防止

最高温度 ℃

100 - 700 700 - 1,100 1,100 - 1,200 1,200 - 1,300 1,300 - 1,400 1,400 - 1,500 1,500 - 1,600 1,600 - 1,700 1,700 - 1,800

炉内容積 L

0 - 5 5 - 10

温度分布

3 - 6 6 - 10

電源電圧

AC100V AC110V AC200V AC220V AC380V AC400V

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会社概要

株式会社サンバックは真空装置のメーカーです。...

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  • 本社所在地: 東京都

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