半導体用脱ガス炉
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この製品について

本装置は、半導体用に開発された脱ガス炉です。ヒーターはカンタル種の発熱体を採用しており、温度制御もPID制御にて行います。また排気系は油回転ポンプと油拡散ポンプを採用しており、排気時間を短縮する為に、液体窒素トラップ機構も兼ね備えてあります。炉心管は脱着を簡単に行えるようスライドガイド方式により移動が可能となっております。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
半導体用脱ガス炉

取扱企業
株式会社サンバック

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半導体用脱ガス炉品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	到達圧力	ヒーター材質	炉心管材質	昇温時間	温度分布	温度制御	真空排気系	真空計	操作方法	記録計	ユーティリティ電気	ユーティリティ冷却水	ユーティリティ計装エアー	ユーティリティ設置スペース
	半導体用脱ガス炉	要見積もり	×10-4Pa以下※常温・無負荷・液体窒素使用時	カンタルA1線 (φ130mm×600mmL)	透明石英	常温から900℃まで3時間以内	±2.5℃ (900℃時) 均熱帯：340mmL	電流出力型PID制御デジタル温調計・サイリスタユニット	油回転ポンプ：167L/min[50Hz] 油拡散ポンプ：310L/sec (水冷バッフル付) 液体窒素トラップ	大気圧検知器/ペニング真空計	グラフィックパネルによる操作 (真空排気系操作) 加熱系操作 (スイッチ方式)	デジタル温調計/ヒーター電流計/粗引時間タイマー/処理時間タイマー動作表示ランプ/異常表示ランプ	AC200V三相8kVA	4L/min以上0.1MPa以上0.15MPa以下25℃以下循環	0.5MPa以上	1,300mmW×900mmD×1,750mmH (制御部含む)