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プレス付真空熱処理装置 高性能・標準規格、新素材の生産、開発に最適  真空ホットプレス装置-PRESS-VAC-2SS
プレス付真空熱処理装置 高性能・標準規格、新素材の生産、開発に最適  真空ホットプレス装置-アトーテック株式会社

プレス付真空熱処理装置 高性能・標準規格、新素材の生産、開発に最適 真空ホットプレス装置
アトーテック株式会社



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この製品について

本装置は真空および不活性ガス雰囲気中で、試料をMoヒ-タ-にて均一に加熱し、各種熱処理を行うと同時に、サ-ボプレスにより50KNまで加圧を可能にしました。従って、拡散接合にも最適です。

  • シリーズ

    プレス付真空熱処理装置 高性能・標準規格、新素材の生産、開発に最適 真空ホットプレス装置

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プレス付真空熱処理装置 高性能・標準規格、新素材の生産、開発に最適 真空ホットプレス装置 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 真空度 到達 真空度 常用 排気時間 排気系 許容リ-ク量 温度 最高 温度 常用 温度 常用温度 有効均熱部 均熱部温度 加熱方式 加熱温度
プレス付真空熱処理装置 高性能・標準規格、新素材の生産、開発に最適  真空ホットプレス装置-品番-PRESS-VAC-2SS

PRESS-VAC-2SS

要見積もり

10^-4Pa (常温,空積脱ガス完了後)

10^-3Pa

大気圧→10^-3Pa/30min (常温,空積)

80A (3インチ) 油拡散ポンプ排気系、液体トラップ付

1×10^-2Pa・L/sec以下

1,300℃ (真空中,空積) ※真空炉として使用

1,200℃ (真空中) ※真空炉として使用

常用温度1,000℃ (真空中) ※プレス (治具含む) として使用

□100×100ℓ (プレス治具なし,真空,空積)

1,200℃±10℃ (プレス治具なし,真空,空積)

抵抗加熱方式 (プログラム設定に依る自動昇降温)

最大10℃/min

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この商品の取り扱い会社情報

会社概要

アトーテック株式会社は、1989年に設立された真空装置メーカーです。 一般社団法人日本真空学会に加盟し、半導体製造などに用いられる容器の内部から気体を排出させて、容器内を真空状態にする真空ポンプや、半導体製造や医薬品の...

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  • 本社所在地: 東京都
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