マイクロ波プラズマ実験装置 MiPC-1000
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この製品について

■概要アリオスではマイクロ波を用いたプラズマ実験装置の製作を承っております。プラズマ源やマイクロ波電源を含め、全て自社設計する当社だからこそ可能な柔軟設計により、お客様の要求仕様に応じて設計、製造致します。
DLC膜、カーボンナノチューブ、プラズマ殺菌、真空紫外照射、その他のプラズマ暴露実験ができるマイクロ波実験装置など、多種に渡り製作が可能です。プラズマについてはプラズマに関しての実践的テクニック、プラズマ Q＆Aで詳しく説明しております。ぜひ併せてご覧下さい。

■特徴・基板移動機構により、基板とプラズマの位置を任意に設定できますので、様々なプロセスに対応します。
・プラズマ中に基板を挿入すれば、プラズマにより加熱されますので、ダイヤモンド薄膜作製時にヒーターは不要です。
・温度上昇を避けたい場合は、基板を遠ざけリモートプラズマ方式が可能です。
・排気装置はターボ分子ポンプ仕様標準で、オプションによりロータリーポンプ仕様も可能です。

■オプション・アンテナ型マイクロ波プラズマ源
・基板上下機構ストローク変更
・ロータリーポンプのみ
・基板バイアス電源
・基板対応サイズ変更
・ロードロック機構
※標準仕様以外にも、要求仕様に応じ設計製作致します。 

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
マイクロ波プラズマ実験装置 MiPC-1000

取扱企業
アリオス株式会社

カテゴリ

加工・工作機器

プラズマ装置

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マイクロ波プラズマ実験装置 MiPC-1000 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	プラズマ源	マイクロ波出力電力	基板	真空計	到達真空度/到達圧力	リーク量	ガス種	試料交換	基板上下機構	基板加熱機構	本体架台	用力
	MiPC-1000	要見積もり	石英導波管直交方式	0~1,000W (2.45GHz ± 50MHz)	φ20mm 基板対応	コールドカソードピラニ－ゲージ、キャパシタンスゲージ	5.0×10^-4 Pa以下 (ターボ分子ポンプ使用時)	1.0×10^-8 Pa・m^3/sec以下 (Oリング透過分を除く)	H2 、Ne、N2 、Ar、O2 、CH4 、etc...	交換用ハッチ	ストローク 235mm	最高加熱温度 1,000℃	キャスター、アジャスター付き (電源部を含む) 重量約150kg	AC100V 20A、AC200V 3相 20A プロセスガス：SwagelokTM 1/4 又は VCRTM 1/4