FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill-Model 1040

FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill
ムサシノ電子株式会社

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この製品について

超低エネルギーの濃縮イオンビームを使用して、透過電子顕微鏡  (TEM)  観察に最適な最高品質の試料を生成。FIB  (集束イオンビーム)  により作製されたTEM試料に対する、後処理用ミリング装置です。

■特長・超低エネルギー不活性ガスイオン源
・走査能力を備えた濃縮イオンビーム
・ダメージ層を再蒸着せずに除去
・収束イオンビーム  (FIB)  加工後の処理に最適
・従来の方法で作成された試料から得られる結果が向上
・室温から極低温のナノミリング
・高処理能力用途に適した高速試料交換
・コンピュータ制御され、すべてをプログラム設定できる、操作性に優れた装置
・汚染のない乾式真空システム

ディンプリング研磨、超音波ディスクカット等の従来技術を用いた試料作製や、濃縮イオンビームによるダメージの無い試料生成によって、電子顕微鏡観察に最適な環境を構築するE.A. Fischione Instruments, Inc.社の装置です。またプラズマクリーナーによって試料およびホルダーから、試料の組成や性質を変えることなく、有機物質のみを除去することで、TEM、SEM電子顕微鏡観察に最適な環境を実現します。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill

取扱企業
ムサシノ電子株式会社

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2024年12月19日にレビュー済み

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FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	本体寸法	本体重量	イオン源	可変エネルギー	イオン源電流	ビーム電流	試料ステージ回転	設定角度回転	ミリング角度	制御方法	真空ポンプ	プロセスガス	電源
	Model 1040	要見積もり	W673mm × D775mm × H1613mm	194kg	中空陽極放電 (HAD)	0.5~6.0kV	3~8mA	Max.400マイクロアンペア	1~360° (1度刻みでの設定可能)	0±179°	0~45°	パソコン制御	ターボモレキュラーポンプ (70リットル) 除霜装置付ダイヤフラム式ラフィングポンプ採用	流速約0.4~1.0sccm/イオン源 10psiの送り圧力	AC100V、単相、50/60Hz、7A