FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill ムサシノ電子株式会社
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この製品について
超低エネルギーの濃縮イオンビームを使用して、透過電子顕微鏡 (TEM) 観察に最適な最高品質の試料を生成。FIB (集束イオンビーム) により作製されたTEM試料に対する、後処理用ミリング装置です。
■特長
・超低エネルギー不活性ガスイオン源 ・走査能力を備えた濃縮イオンビーム ・ダメージ層を再蒸着せずに除去 ・収束イオンビーム (FIB) 加工後の処理に最適 ・従来の方法で作成された試料から得られる結果が向上 ・室温から極低温のナノミリング ・高処理能力用途に適した高速試料交換 ・コンピュータ制御され、すべてをプログラム設定できる、操作性に優れた装置 ・汚染のない乾式真空システム ディンプリング研磨、超音波ディスクカット等の従来技術を用いた試料作製や、濃縮イオンビームによるダメージの無い試料生成によって、電子顕微鏡観察に最適な環境を構築するE.A. Fischione Instruments, Inc.社の装置です。またプラズマクリーナーによって試料およびホルダーから、試料の組成や性質を変えることなく、有機物質のみを除去することで、TEM、SEM電子顕微鏡観察に最適な環境を実現します。-
シリーズ
FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill
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取扱企業
ムサシノ電子株式会社
FIB後処理用ナノミル装置 Model 1040 NanoMill 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 本体寸法 | 本体重量 | イオン源 | 可変エネルギー | イオン源電流 | ビーム電流 | 試料ステージ回転 | 設定角度回転 | ミリング角度 | 制御方法 | 真空ポンプ | プロセスガス | 電源 |
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Model 1040 |
要見積もり | W673mm × D775mm × H1613mm | 194kg | 中空陽極放電 (HAD) | 0.5~6.0kV | 3~8mA | Max.400マイクロアンペア | 1~360° (1度刻みでの設定可能) | 0±179° | 0~45° | パソコン制御 |
ターボモレキュラーポンプ (70リットル) 除霜装置付ダイヤフラム式ラフィングポンプ採用 |
流速約0.4~1.0sccm/イオン源 10psiの送り圧力 |
AC100V、単相、50/60Hz、7A |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
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