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半導体製造装置用 ホットプレート-ホットプレート
半導体製造装置用 ホットプレート-株式会社サカエ

半導体製造装置用 ホットプレート
株式会社サカエ

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この製品について

半導体製造装置に搭載され、前工程の塗布・現像工程に使用されています。高温対応のSiCも製造可能です。

  • シリーズ

    半導体製造装置用 ホットプレート

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半導体製造装置用 ホットプレート 品番1件

商品画像 品番 価格 (税抜) 使用温度範囲 性能 プレート材質 ヒーター
半導体製造装置用 ホットプレート-品番-ホットプレート

ホットプレート

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60~400℃

ウエハ上温度分布　温度Range 0.2℃@180℃

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