半導体製造装置用ホットプレート
株式会社サカエ

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この製品について

半導体製造装置に搭載され、前工程の塗布・現像工程に使用されています。高温対応のSiCも製造可能です。

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商品画像	品番	価格 (税抜)	使用温度範囲	性能	プレート材質	ヒーター
	ホットプレート	要見積もり	60~400℃	ウエハ上温度分布　温度Range 0.2℃@180℃	AL、SUS、SiC等	マイカヒーター、ポリイミドヒーター