ほぼすべての材料で高品質な断面を作製トリプルイオンミリング装置 EM TIC 3X-EM TIC 3X

ほぼすべての材料で高品質な断面を作製トリプルイオンミリング装置 EM TIC 3X
ライカマイクロシステムズ株式会社

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この製品について

アルゴンイオンビームによる無応力加工で断面作製。SEM用の断面作製からEBSD結晶方位解析用の試料作製まで対応。

■ほぼすべての材料で高品質な断面を作製SEM、微細構造分析やAFMのための断面作製装置です。液体窒素によるクライオ・ステージ  (～-150℃、任意に温度設定可)  により、加工中の試料への熱ダメージを低減し、従来のイオンミリング法で加工が困難であった試料作製も可能に。また、マルチステージでは、異なる条件設定の3試料をセットでき、連続して自動加工を行うことができます。

■主な機能・特長・ほとんどの材料で質の高い断面を作製
・最大50×50×10mmの大きな試料も搭載可能
・トリプルイオンビーム方式で高速に広く深くミリング

■様々なアプリケーションに対応した、4種類のステージ・スタンダードステージ
常温での断面加工のための試料ステージ。最大で50×50×100mmまでの試料をセットできます。

・マルチサンプルステージ
ターレット式のステージに最大3個までの資料をセットでき、1回のセッションで次々に自動加工します。試料作製の生産性や効率の向上に効果的です。

・クライオステージ
極低温での加工が可能。試料ホルダー及びマスクの温度を-150℃まで下げられ、熱に極めて敏感な資料を高品質に加工できます。

・ロータリーステージ
機械研磨サンプルのダメージ除去  (研磨キズの軽減)  や汚染されたサンプルの表面クリーニングのための試料ステージ。