高出力・完全空冷産業用フェムト秒レーザー FemtoLux 30-FemtoLux 30

高出力・完全空冷産業用フェムト秒レーザー FemtoLux 30
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この製品について

■2024年 国際会議SPIEにてPrizm Awardを受賞国際会議SPIEにて、EKSPLA社FemtoLux30は、最も優れた光学・フォトニクス製品におくられるPrizm Awardを受賞いたしました。

■2022年 Laser Focus Worldにて金賞受賞2022年 Laser Focus World イノベーターズ・アワードにて金賞を受賞しました。 Laser Focus World紙 イノベーターズ・アワードは、独自性と革新性に優れた技術製品に表彰されております。EKSPLA社製 Femto Lux-30は、独自のドライ・クーリング機能と、それがユーザーにもたらす利点を認められました。

■新機能　GHzバーストオプション　ロング/ショート両対応独自のAFLバースト形成技術*により、他のレーザーでは直面する多くの制限を克服することができます。非常に汎用性に優れた、この技術は以下の利点があります。

・主発振器の繰り返し周波数に依存せず、任意のバースト間隔を実現可能
・GHzバースト内のパルス間隔が一定
・ショートバースト (~10ns) 、ロングバースト (~20ns～数百ns) の両方に対応
・GHzバーストの振幅エンベロープを任意に調整可能
・プリパルス、ポストパルスフリー
・バースト内での超短パルスを維持
*特許出願中

■新機能　高精度パルスオンデマンド (PoD) オプション・20ns以下の低ジッターにより、高速微細加工における一貫した等距離のパルス間隔を実現
・調整可能な繰り返し周波数により、複雑な形状にも対応
・加工の高速化、生産性の向上

PoD機能は、レーザーパルスを正確に制御し、より高い効率、精度、品質を実現するために、一定の速度ではなく、必要なときにのみパルスを発射することを可能にします。この機能は、高速な加工、一定したエネルギー、精度が不可欠な様々な微細加工アプリケーションにおいて特に価値があります。

高速で複雑な曲線に追従し、パルスを等間隔に維持するためには、パルスの繰り返し速度を高い精度で調整する必要があります。

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
高出力・完全空冷産業用フェムト秒レーザー FemtoLux 30

取扱企業
株式会社東京インスツルメンツ

カテゴリ

光源

レーザー光源

光源

超短パルスレーザー

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高出力・完全空冷産業用フェムト秒レーザー FemtoLux 30 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	基本波	第2高調波 (オプション)	第3高調波 (オプション)	繰り返し周波数	平均出力 1,030nm	平均出力 515nm	平均出力 343nm	パルスエネルギー 1,030nm	パルスエネルギー 515nm	パルスエネルギー 343nm	パルス数 MHzバースト時	全パルスエネルギー (バースト時)	長時間安定度 (Std. dev.)	パルスエネルギー安定度 (Std. dev.)	パルス幅 (FWHM)	ビーム品質	ビーム真円度 (ファーフィールド)	ビーム拡がり角 (全角)	ビーム位置安定度	パルス制御	インターフェイス	冷却機能
	FemtoLux 30	要見積もり	1,030nm	515nm	343nm	シングルショット~4 MHz (AOM制御)	> 27W (typical 30W)	> 11W	> 6W	> 90µJ (オプション 1mJ@10kHz)	> 55µJ	> 30µJ	2~10パルス	> 250µJ	< 0.5%	< 1%	可変, < 350fs~1ps	M2< 1.2 (typical < 1.1)	> 0.85	< 1mrad	< 20µrad/℃	分周機能、パルスピッカー、バースト出力、出力調整など	USB / RS232 / LAN	ドライ (完全空冷、冷却水不要)