高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom-UltraFlux FF401k-F8-CEP

高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom
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この製品について

■製品概要ヴィリニュス大学で開発されたOPCP*は、従来のフェムト秒チタンサファイアよりも、高い平均出力、優れた時間コントラストおよびバンド幅が得られます。本装置は、ハンガリーにある高強度レーザー施設「ELI-ALPS」に2019年に本レーザーが納入されております。繰り返し周波数1kHz、ピーク出力5TW以上、平均出力35W、CEP安定化されたパルス幅6.6fsを出力します。

新たなレーザーシステムSYLOS3は、ピークパワー15TW、繰り返し周波数1KHz、パルス幅8フェムト秒という、これまで市販の装置では達成できなかったユニークなパラメータを実現します。2019年納入されELI-ALPSに設置さたSYLOS2Aシステムと比較して、3倍以上のピークパワーと平均パワーを実現することができます。

このシステムは高次高調波発生によるコヒーレントX線発生や、電子加速など様々な用途に利用できます。

■OPCPAとは光パラメトリックチャープパルス増幅の略で、従来のTi：サファイアよりも高い出力が得られ、優れた時間コントラスト、広帯域バンド幅を実現します。

■特長・1kHz繰り返し周波数
・平均出力 >120W
・ピーク強度 15TW
・パルス幅 (<8fs
・CEP ～220mrad
・ASE フリー

■用途・アプリケーション・加速器
・高次高調波発生、EUV、XUV
・アト秒
・X線発生
・高エネルギー粒子線発生

型番
この商品には1種類の型番があります

シリーズ
高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom

取扱企業
株式会社東京インスツルメンツ

カテゴリ

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高繰り返しテラワットレーザーシステム UltraFlux Custom 品番1件

商品画像	品番	価格 (税抜)	出力エネルギー	ピーク出力	パルス繰り返し率	波長	パルス幅	エネルギー安定度	長時間出力ドリフト	CEP安定度	ビームプロファイル	ビーム径	ビーム位置安定度	ストレール比	APFC (± 50ps以内)	プリパルス (≤ 50ps)	ポストパルス (>50ps)	レーザーヘッド (W×L×Hmm)
	UltraFlux FF401k-F8-CEP	要見積もり	40mJ	> 5TW	1kHz	900nm	≦ 8fs (≦ 3サイクル)	≤ 1%	± 1.5%	≦ 250mrad	スーパーガウシアン	~ 50mm	≦ 20µrad	> 0.7	106:1	1011:1	108:1	9,000×5,000×1,200