エキシマ光処理システム エキシマUVO3洗浄改質装置 6inch対応卓上モデル E172 -152
株式会社エキシマ
この製品について
■用途例
・電子顕微鏡サンプルの前処理 ・サンプル試料や治具の洗浄 ・サンプル表面の濡れ性、親水性、親和性改善 ・接合面の密着性向上 ・表面改質 ・ウェハーやガラス面の洗浄後、残留有機物分解、洗浄 ・ウェハーやガラス面表面の成膜や塗布前の均一性の向上■特長
・ワークサイズ 6” (152mm) 対応 ・ステージ搬送エキシマUVスキャン照射方式 ・プロセスパラメーター (照射速度、照射回数、照射距離) ・オプションプロセスパラメーター (N2パージ、ヒーターステージ) ・オゾン除害処理ユニット装備 ・波長172nm XeエキシマUVランプ 光化学反応による常温短時間精密処理 ・ユーティリティ、AC100V電源のみ ・扉インターロック装備 ・省スペース卓上モデル ・水銀ランプ不使用■シンプルな基本設計でプロセス高性能を実現。
エキシマUV光源による光化学反応表面処理は光源特性により照射対象物の温度が上がりにくいのでフィルム素材など熱の影響を受けやすい対象物へ低温表面処理が可能です。また、光化学反応はプラズマのように物理的な表面処理と異なりワークへのダメージを与えにくい精密な処理を特長とします。 真空ポンプ不要、オゾン除害ユニット内蔵-
シリーズ
エキシマ光処理システム エキシマUVO3洗浄改質装置 6inch対応卓上モデル E172 -152
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取扱企業
株式会社エキシマ
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カテゴリ
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エキシマ光処理システム エキシマUVO3洗浄改質装置 6inch対応卓上モデル E172 -152 品番1件
| 商品画像 | 品番 | 価格 (税抜) | 波長 | 対象ワークサイズ | 初期照度 | 連続点灯運転 | 外形寸法 | ユーティリティ | 定期交換部品 | 定期点検 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
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E172 -152 |
要見積もり | 172nm | 6” (□152 mm) | 20mW/cm2以上 | 10分以内 (軽量小型空冷設計のため) | 195 (W) × 380 (D) x480 (H) mm※ | 電源AC100V 50/60Hz 2A | 排気オゾン分解ユニット推奨1年もしくは適宜交換 | 高圧電源、ランプ光源等 1年もしくは適宜 |
のついている項目名や値は、Metoreeの自然言語処理アルゴリズムを用いて自動生成された値です。各メーカーの製品を横断して比較しやすくするための参考としてご利用ください。自動生成データは黒色の文字、元データは灰色の文字です。
