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メガソニック超音波洗浄システム(FTFトランスデューサー)-ティックコーポレーション株式会社
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型番説明

フェイス・トゥ・フェイス型メガソニック振動子(400 kHz / 1 MHz) 最大300mmサイズの基板や半導体ウェーハに対し、1工程での洗浄が可能な装置です。 特徴 - 振動子構造:PFA(フッ素樹脂)製で密閉型、安全性と耐薬品性に優れる - 設置位置:回転する基板の真上に設置 - 液層の必要性:メガソニック波を伝えるため、振動子と基板表面の間には常に液体層が必要 - 音波の伝達領域:振動子の有効表面(約150 x 25 mm)から垂直方向に均一な音波を照射 洗浄プロセスの利点 - 音響エネルギーが均等に分布されることで、基板全体をムラなく洗浄 - 液中伝達による非接触洗浄で、微細構造の損傷を防止

この製品について

次世代メガソニック技術で最大300mmウェハーも一瞬でクリアに SONOSYS社製1MHzメガソニックシステム(FTFトランスデューサー & MGHジェネレーター)は、単一基板の洗浄プロセスを最適化する高性能システムです。 主な特長を以下の通りです。 - 高精度洗浄: PFA製の密閉型トランスデューサーが基板から約1.5mmの距離で設置され、メガソニックエネルギーを均一に伝達 - 特許技術採用: 「バタフライ圧電セラミック」技術により、従来のシステムと比較して最大40%高い音圧、最大30%高い効率を実現 - シングルプロセス対応: 最大300mmの基板やウェハーの洗浄に適用可能 - 高出力仕様: 150Wの出力調整範囲(約20%~100%)を持ち、1MHzの超音波を活用 - 安定した動作環境: 筐体は19インチエンクロージャーでコンパクトな設計 - 動作温度範囲は+10℃~+40℃ - 耐久性と適応性: 最大+80℃までの液体温度に対応(窒素冷却使用時) - PTFEコート同軸HFケーブル(3m)採用 - 精密設計: 設置距離は約1.5mm(1MHz時)、基板の最低液層厚は約4mm

■用途/実績例

半導体用ウェーハ、フォトマスク、MEMSなどの洗浄

  • 型番

    ソノシス社製メガソニックシステム(FTFトランスデューサー)

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メガソニック超音波洗浄システム(FTFトランスデューサー) ソノシス社製メガソニックシステム(FTFトランスデューサー)の性能表

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メガソニック超音波洗浄システム(FTFトランスデューサー)-品番-ソノシス社製メガソニックシステム(FTFトランスデューサー) 要見積もり

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使用用途

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超音波発生方式

圧電振動型 ハイブリッド型

周波数帯域

単一周波数型 デュアル周波数型 周波数可変型

槽構造

単槽型 多槽型 オーバーフロー型

液循環方式

循環濾過型 加熱循環型

洗浄液量 L

0 - 20 20 - 40

超音波出力 W

0 - 400 400 - 700 700 - 900 900 - 1,300

発振周波数 KHz

20 - 30 30 - 40 40 - 50

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この商品の取り扱い会社情報

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会社概要

1987年8月に会社設立

液体噴霧から水切り、乾燥、吹き飛ばしまで、あらゆる省エネ商品を提供!

生産、現場改善商品も随時更新!
ティックコーポレーションは、生産効率の改善・経費...

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  • 本社所在地: 東京都

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