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半導体製造装置用 ホットプレート-株式会社サカエ

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100.0%

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6.7時間

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使用温度範囲

60~400℃

性能

ウエハ上温度分布 温度Range 0.2℃@180℃

プレート材質

AL、SUS、SiC等

ヒーター

マイカヒーター、ポリイミドヒーター

この製品について

半導体製造装置に搭載され、前工程の塗布・現像工程に使用されています。高温対応のSiCも製造可能です。

  • 型番

    ホットプレート

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半導体製造装置用 ホットプレート ホットプレートの性能表

商品画像 価格 (税抜) 使用温度範囲 性能 プレート材質 ヒーター
半導体製造装置用 ホットプレート-品番-ホットプレート 要見積もり 60~400℃ ウエハ上温度分布 温度Range 0.2℃@180℃ AL、SUS、SiC等 マイカヒーター、ポリイミドヒーター

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使用用途

#タンク #液体 #乾燥 #気体 #金型 #固体 #暖房 #凍結防止 #配管 #保温

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この商品の取り扱い会社情報

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  • 本社所在地: 東京都

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