会社概要
高周波ネッスル株式会社は1989年に設立された、誘導加熱装置・高周波金属溶解装置などの製造メーカーです。
誘導加熱装置・高周波誘導溶解装置・焼鈍用高周波加熱装置などの製造をしており、工業製品の生産現場だけでなく、MRIなどの医療分野・宇宙科学分野など取引を拡充しています。
1986年に高周波機器及びハンダ付機器の製造を目的に創業、1989年に有限会社高周波ネッスル工業として法人化、1991年に現社名へ社名変更しています。
株式会社高周波ネッスルの製品カテゴリ
株式会社高周波ネッスルの製品が2件登録されています。
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注目ランキングは、2024年10月の株式会社高周波ネッスルのMetoreeページ内でのクリックシェアを基に算出しています。クリックシェアは、対象期間内の各ページでの全企業の総クリック数を各企業のクリック数で割った値を指します。また、製品はMetoreeに登録されているもののみが表示されています。