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株式会社三若純薬研究所

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会社概要

株式会社三若純薬研究所は、工業用精密化学薬品の受託製造及び各種化学薬品製造・販売メーカーです。 受託生産では、依頼に応じた精密化学薬品精製や配合のほか、配合剤の提案、共同開発なども行っています。その他、電子・化学工業で使用される塗装剥離液、金属表面処理剤、フォトレジスト剥離液などの製造販売も行っています。三若純薬研究所の薬品は、電子・化学をはじめとして、自動車、食品など様々な分野の企業に提供されています。



株式会社三若純薬研究所の取り扱い製品

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39 点の製品

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株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液 アンラスト®R-5000

特長 ■ポイント ・剥離温度を低くすることでエネルギーコスト削減 ・ボイラー不要、電気ヒーターによる加熱で剥離可能 ・成分の蒸発を抑...

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株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液 アンラスト®RC-D6

特長 ■ポイント ・溶剤タイプでレジストや塗料の剥離に対応 ・5~60分の処理時間で効率的な剥離が可能 ・ドライフィルムレジストやウレ...

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株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液 アンラスト® M10

特長 ■ポイント ・剥離片が小さく基材への引っ掛かり防止 ・浸漬法とスプレー法に対応 ・短時間でのレジスト剥離可能 剥離片が小さくな...

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株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液 アンラスト® M6

特長 ■ポイント ・有機アルカリタイプでアルミ基板に使用可 ・浸漬法とスプレー法に対応 ・短時間でのポジレジスト剥離が可能 有機アル...

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株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液 アンラスト®M601

特長 ■ポイント ・有機アルカリタイプでアルミ基板にも使用可能 ・浸透性が高く細部まで剥離可能 ・浸漬法とスプレー法に対応 有機アル...

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株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液 アンラスト® No.2C

特長 ■ポイント ・珪酸塩ベースの高沸点溶剤混合品 ・アルミニウム基盤にも対応 ・常温から70℃までの広い温度範囲で使用可能 珪酸塩ベ...

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株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液 レジスト剥離促進剤 アンラスト® TP160

特長 ■ポイント ・アルカリベースの剥離液に添加して剥離を容易に ・鉄系基材に対して防・除錆効果 ・生分解性が良く、環境負荷が少ない...

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株式会社三若純薬研究所

塗装剥離液 アンラスト® M11

特長 ■ポイント ・有機アルカリタイプでアルミにも対応 ・常温から70℃まで対応、幅広い処理温度 ・鉄鋼、非鉄金属の塗料剥離に適用 有...

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株式会社三若純薬研究所

フォトレジスト剥離液 レジスト剥離促進剤 アンラスト® F

特長 ■ポイント ・アルカリベースの剥離液に添加し、微細加工部の剥離が容易に ・ドライフィルムやポジレジストの効果的な剥離をサポー...

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