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39 点の製品
株式会社三若純薬研究所
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特長 ■ポイント ・レジストスラッジの固着に効果的で、洗浄時間を短縮 ・浸漬循環または直接塗布で効率的な洗浄が可能 ・塩ビやフッ素ゴ...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 50分前
特長 ■ポイント ・研磨後の表面平滑性に優れる ・優れた金属光沢が得られる ・浸漬や液中スプレーでの使用推奨 研磨後の表面平滑性に優...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 5分前
特長 ■ポイント ・アルミ、アルミ合金の光沢を維持し、腐食や変色を防止 ・低発泡性でスプレー洗浄にも対応 ・環境に優しいリン系ビルダ...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 23時間前
特長 ■ポイント ・スケール洗浄に特化し、カルシウムやマグネシウム由来に対応 ・SUS304や塩ビに安全で影響なし ・常温で15分から2時間...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 11時間前
特長 ■ポイント ・銅とITOのエッチングが可能 ・添加剤で液寿命を延長 ・常温から40℃までの幅広い温度範囲で使用可能 銅とITOのどちら...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 5分前
特長 ■ポイント ・アルミ、アルミ合金の光沢を維持し、腐食や変色を防止 ・低発泡性で経済的、浴寿命が長い ・環境に配慮したリン系ビル...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 5分前
特長 ■ポイント ・鉄鋼、銅、真鍮、亜鉛など広範囲の対象物に対応 ・メッキや塗装に悪影響を与えず、経済的 ・低発泡性でスプレー洗浄も...
株式会社三若純薬研究所
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特長 ■ポイント ・混酸タイプで作業性に優れる ・臭気が少なく快適な作業環境 ・アルミおよびアルミ合金の薄膜用に最適 混酸タイプのエ...
株式会社三若純薬研究所
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特長 ■ポイント ・ドライフィルムレジストの固着を容易に除去 ・低発泡性で清掃が簡単 ・軟質ゴムにも対応したアルカリ水溶性洗浄剤 ド...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 9時間前
特長 ■ポイント ・アルミ基板にダメージを与えずに剥離 ・低温での剥離、エネルギーコスト削減 ・電気ヒーターによる加熱で剥離可能 様...
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特長 ■ポイント ・シリカ系スケールの結晶を効果的に除去 ・高粘度ジェルで壁面にも直接塗布可能、用途に応じて調節可 ・青色ジェルで拭...
株式会社三若純薬研究所
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危険物第五類に該当するヒドロキシルアミン塩類を、長年の製造実績に裏付けされた技術により、安全で安定的に製造しお客様に供給し続け...
株式会社三若純薬研究所
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最新の閲覧: 22時間前
特長 ■ポイント ・簡単な処理で変色防止効果を発揮し、低コストで運用可能 ・防錆膜はアルカリ溶液で簡単に除去できる ・常温で短時間処...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・固形分を含まず浸透性に優れ、高い剥離効果を発揮 ・短時間でレジストを剥離可能 ・中性タイプの水系塗料剥離で、下地...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・高温使用で優れた剥離性 ・浴寿命が長く経済的 ・苛性アルカリ混合で効果的な剥離 高温使用が可能の為、剥離性に優れ...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・ガラス基板の再生・洗浄に最適 ・樹脂に対して強力な剥離・洗浄性 ・浸漬法、スプレー法に対応 苛性アルカリと高沸点...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・フォトマスクにダメージを与えずに汚れを効果的に除去 ・高い揮発性で、拭き取り後の追加洗浄が不要 ・常温で使用可能...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・アルミ及びアルミ合金に腐食性低い ・経済的な剥離、液疲労が少ない ・各種被膜に対応するアルカリ水溶性剥離剤 各種...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・高温使用で優れた剥離性 ・塗膜の溶解が少なく経済的 ・高濃度で添加量が少なくて済む 1.高温使用が可能の為、剥離性...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・高温で優れた剥離性 ・塗膜の溶解が少なく経済的 ・塩素系溶剤非含有、安心して使用 ・苛性カリベースの電着塗装剥離...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・珪酸塩ベースの高沸点溶剤混合品 ・アルミニウム基盤にも対応 ・水溶性でポジレジストの剥離に対応 珪酸塩ベースの高...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・PVA系フォトレジスト専用剥離剤 ・リードフレーム用に特化して開発 ・剥離後の皮膜が小さく、BOD/COD負荷が低い PVA...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・低発泡タイプでポジ型レジストに最適 ・苛性ソーダーベースで優れた剥離性能 ・浸漬法とスプレー法に対応 低発泡タイ...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・アルカリベースの剥離液に添加して剥離を容易に ・苛性ソーダ、苛性カリ、有機アルカリに対応 ・電子工業向けの専用促...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・カゼインとPVA系フォトレジストの剥離を促進 ・アルカリベースの剥離液に添加して剥離を容易に ・苛性ソーダ、苛性カ...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・短時間で水素脆化の心配なく除錆 ・フォトエッチングラインの最終工程や製品再洗浄に最適 ・処理条件をシミやヤケ、錆...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・中性タイプで素材を選ばない ・経済的な剥離、液疲労が少ない ・各種被膜に対応 各種被膜を剥離する中性タイプの水系...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・塩素系・アミン系溶剤を含まず臭いを抑える ・常温から60℃でエナメル電線皮膜の剥離が可能 ・人体への影響が少なく、...
株式会社三若純薬研究所
特長 ■ポイント ・有機アルカリタイプでアルミニウム基板にも使用可能 ・浸漬法とスプレー法に対応 ・剥離片を柔らかくし細分化させる効...
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