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アトーテックの蒸着装置

5 点の製品がみつかりました

5 点の製品

アトーテック株式会社

破面蒸着保護膜形成装置 FDP-500-Ⅱ型

70人以上が見ています

100.0% 返答率

133.9時間 返答時間

本装置は各種金属、合金材料などを極高真空中 (X10-9Pa) で低温 (~100K) にして機械的衝撃により破断させた後直ぐに破面にNi等の真空蒸着を行う為に開発され...


アトーテック株式会社

電子ビーム真空蒸着装置 3KVイオン銃電源

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100.0% 返答率

133.9時間 返答時間

SPUTTER ION SOURCE 3KVイオン銃 (SIG030) 用制御電源は、オートエミッション機構を有し、安定したイオン源です。


アトーテック株式会社

電子ビーム真空蒸着装置 マグネトロンスパッター装置

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100.0% 返答率

133.9時間 返答時間

■特徴 ・電子顕微鏡向けタングステン薄膜のコーティング装置です。 ・超高分解能SEMにおいて超高倍率の観察に活躍します。 (20万倍以上) ・試料反転機構を装...


アトーテック株式会社

電子ビーム真空蒸着装置 3KVイオン銃

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100.0% 返答率

133.9時間 返答時間

3KVイオン銃は、超高真空中で試料表面のクリーニングを目的として「Arスパッタイオン銃」で、薄膜作成準備、表面分析の実験研究用として利用されています。


アトーテック株式会社

電子ビーム真空蒸着装置

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100.0% 返答率

133.9時間 返答時間

本装置は、前進的な試料作りを目的とし清浄高真空中で電子ビームにより特にMg合金を初めとする全ての金属に適した蒸着装置として開発された装置です。 ■特長...


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