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片桐エンジニアリングの蒸着装置

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株式会社片桐エンジニアリング

3つのターゲットで同時成膜可能なスパッタ装置 三元マグネトロンスパッタ装置

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◼︎概要 ・三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発 ・多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化 (ヒー...


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株式会社片桐エンジニアリング

基板傾斜機構搭載高真空蒸着装置 高真空蒸着装置

最新の閲覧: 14分前

◼︎概要 ・ターボ分子ポンプ搭載でクリーンな成膜が可能 (到達圧力 4×10^-5Pa) ・基板傾斜機構搭載で基板をθ±90°、φ±45°傾斜成膜可能 ・...




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