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項目別

基板加熱温度 ℃

100 - 500

膜厚分布 %

1 - 5

使用用途

研究開発 保護膜

ハイソルの蒸着装置

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2 点の製品

ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 310TA

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本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...


ハイソル株式会社

卓上型真空ベーク・HMDS蒸着装置 58TA

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本装置はHMDS (ヘキサメチルジシラザン) の蒸着成膜 (ベーパープライミング) に特化しており、装置の各種パラメータはあらかじめHMDS専...


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