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使用用途

#超高真空

#MBE

成膜環境

高真空蒸着型

特徴機能

自動制御型

クリーン対応型

チャンバーサイズ mm

350 - 400

基板加熱温度 ℃

500 - 800

800 - 1,000

アリオスの蒸着装置

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2 点の製品

アリオス株式会社

MBE装置

500人以上が見ています

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■概要 アリオスは、MBE装置の製造に20年以上の実績を有するプロ集団です。アリオスのMBE装置は、基板サイズ1”~6”、Ⅲ-Ⅵ族に対応。お客...


アリオス株式会社

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

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■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの...




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