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株式会社シンアペックス
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■最大450℃までの加熱設定、ギ酸還元プロセス対応、基板冷却機能標準装備、省スペース卓上型、真空リフロー炉 TVF200 プロセスチャンバー内の圧力を変化させる...
株式会社シンアペックス
40人以上が見ています
最新の閲覧: 1日前
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■300x300mmの加熱エリア、急速冷却機能、ギ酸還元プロセス対応、真空加圧リフロー炉 450℃までの加熱に対応し、炉内圧力は100paから0.4Mpaまで幅広い圧力設定...