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エピクエストのスパッタリング装置

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株式会社エピクエスト

低圧RFスパッタ装置 HVS-02

高真空対応のスパッタガンを用いることにより、10-2Pa台においても薄膜形成が可能です。最高5元までのスパッタガンの設置が可能です。


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株式会社エピクエスト

低圧RFスパッタ装置 HVS-03

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高真空対応のスパッタガンを用いることにより、10-2Pa台においても薄膜形成が可能です。最高5元までのスパッタガンの設置が可能です。


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