アリオスのスパッタリング装置

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アリオス株式会社

小型スパッタ装置 SS-DC RF301

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■概要 小型スパッタ装置 SS-DC RF301 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒...


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アリオス株式会社

スパッタ装置

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0.9時間 平均返答時間

■概要 スパッタリング (スパッタと略称することが多い) を使った成膜装置です。スパッタによる成膜の特色は、基板に飛来する粒子が比較的大きなエネルギーを...


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アリオス株式会社

粒子表面成膜用ドラムスパッタ装置

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0.9時間 平均返答時間

■概要 本装置は、試料の表面に均一に成膜させるため、ドラム型の試料ホルダに試料を入れ、回転させながら成膜を行います。試料ホルダの回転運動により試料を...


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